@Article{, title={Study the Effect of Rapid Thermal Annealing on Thin Films Prepared By Pulse Laser Deposition Method دراسة تاثير التلدين الحراري السريع على الاغشية الرقيقة المحضرة بطريقة الترسيب بالليزر النبضي}, author={Heba Salam Tareq}, journal={Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا}, volume={32}, number={3 Part (B) Scientific}, pages={444-452}, year={2014}, abstract={In this paper, the synthesis of nanocrystalline Nickel oxide (NiO) thin films on quartz substrates using a pulsed 532 nm Q-Switched Nd: YAG laser is presented, the annealing temperature was varied from (200 - 400 ˚C). The X-ray diffraction (XRD) results show that the deposited films are crystalline in nature. Furthermore, a higher annealing temperature resulted in a thicker NiO film, which was attributed to an increased grain size. The morphology of deposited films were characterized by scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM);with increasing annealing temperature, the grain size increase .The grain size value (10,23 and 40 nm) for thin films annealing at 200 ,300 and 400˚C respectively., and with increasing annealing temperature, surface roughness decrease. RMS roughness values were (13.5, 7.8 and 5.5 nm) for thin films annealing at 200, 300 and 400˚C respectively. UV–Vis spectrophotometric measurement showed high transparency (nearly 92 % in the wavelength range 400–900 nm) of the NiO thin film with a direct allowed band gap value lying in the range 3.51–3.6 eV.
في بحثنا هذا , تم تحضير اغشية رقيقة نانوية لاوكسيد النيكل(NiO ) على قواعد من الكوارتز باستخدام ليزر نيدميوم ياك النبضي ذو الطول الموجي( nm 532) , تغيرت درجة حرارة التلدين من (200-400) درجة مئوي . اظهرت نتائج حيود الاشعة السينية ان الاغشية المحظرة ذات طبيعة بلورية , كما ادى زيادة درجة حرارة التلدين الى زيادة بالحجم الحبيبي لاغشية اوكسيد النيكل. تم دراسة طبوغرافية السطح باستخدام المجهر الالكتروني الماسح) SEM) ومجهر القوى الذرية (AFM) . بزيادة درجة حرارة التلدين ازداد الحجم الحبيبي.حيث تراوحت قيم الحجم الحبيبي لاغشية اوكسيد النيكل (10,23 و40) نانومتر عند درجات حرارة تلدين (200 ,300 و400 ) مئوي على التوالي.ايضا" ادت زيادة درجة حرارة التلدين الى نقصان بخشونة السطح للاغشية المحضرة. حيث تراوحت قيم الخشونة لاغشية اوكسيد النيكل (13.5 , 7.8 و 5.5) نانومتر عند درجات حرارة تلدين (200 ,300 و400 ) مئوي على التوالي. كذلك تم دراسة الخصائص البصرية بواسطة مطياف النفاذية للأشعة المرئية وفوق البنفسجية .حيث اظهرت النتائج نفاذية أعلى من 92 % عند مدى الطول الموجي (400-900) نانومتر لاغشية اوكسيد النيكل الرقيقة وتراوحت قيمة فجوة الطاقة للانتقال المباشر المسموح ( 3.51 - 3.6 ) الكترون فولت.} }