TY - JOUR ID - TI - Preparation and Characterization of SiO2 Thin Films as an Antireflective Layer تصنيع اغشية رقيقة من ثنائي اوكسيد السيليكون كطبقة مضادة للانعكاس ودراسة خواصها AU - Ammar T. Salih عمار تركي صالح AU - Kadhim R. Gbashi كاظم رشيد كباشي AU - Tawfeeq Kadhem Salman توفيق كاظم سلمان PY - 2018 VL - 14 IS - 1 - Part 1 SP - 67 EP - 76 JO - Academic Science Journal مجلة العلوم الاكاديمية SN - 83732222 25189255 AB - Uniform layers of SiO2 were prepared using thermal evaporation technique under high vacuum (10-5 mbar). Many characterizations were investigated using these films as antireflective layers. The morphological, crystal structural and optical properties of the layers were investigated by using SEM, XRD, and UV-Vis instruments.

تم تحضير اغشية متجانسه لثاني اوكسيد السيليكون على الزجاج باستخدام منظومة التبخير الحراري بوجود الفراغ تحتضغط mbar) 5-(10 . لقد تم دراسة طبيعة السطح للغشاء باستخدام المجهر الالكتروني الماسح, كما تم دراسة الخواصالتركيبية له باسخدام حيود الاشعة السينية, اما الخواص البصرية فقد تم دراستها ضمن نطاق الاشعة المرئية وفوقالبنفسجية باستخدام مطياف الاشعة المرئية وفوق البنفسجية. ER -