@Article{, title={Laser Densification of Prepared SiO2 Sol-Gel Thin Films التكثيف بالليزر لأغشية ثنائي اوكسيد السيليكون الرقيقة المحضرة بطريقة (Sol-Gel)}, author={Noor M. Abdulmalek نور محمد عبدالملك and Mohamed K. Dhahir محمد كريم ظاهر}, journal={Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم}, volume={15}, number={2}, pages={234-237}, year={2018}, abstract={SiO2 nanostructure is synthesized by the Sol-Gel method and thin films are prepared using dip coating technique. The effect of laser densification is studied. X-ray Diffraction (XRD), Fourier Transformation Infrared Spectrometer (FTIR), and Field Emission Scanning Electron Microscopy (FESEM) are used to analyze the samples. The results show that the silica nanoparticles are successfully synthesized by the sol-gel method after laser densification. XRD patterns show that cristobalite structure is observed from diode laser (410 nm) rather than diode laser (532 nm). FESEM images showed that the shape of nano silica is spherical and the particles size is in nano range (≤ 100 nm). It is concluded that the spherical nanocrystal structure of silica thin films is successfully densified by Doide laser (410 nm).

تم تحضير مركب ثنائي اوكسيد السيليكون النانوي بطريقة (sol-gel) وتم تحضير اغشية رقيقة منه بتقانة الطلاء الإنغماسي. دُرس تأثير التكثيف بالليزر. تم فحص العينات المُحضّرة وتحليلها بالطرق الاتية:- الحيود بأشعة X , مطياف تحويلات فورير بالمنطقة تحت الحمراء, والميكروسكوب الالكتروني الماسح. اظهرت النتائج بإن مركبات السيليكا النانوية كانت مُحضّرة بنجاح بطريقة (sol-gel) بعد عملية التكثيف بالليزر. بينت فحوصات XRD بإن تركيب الكرستوبالايت ظهر عند استخدام ليزر الدايود (410 nm) فضلاَ عن ليزر الدايود ( 532 nm). الصور المأخوذة بالمايكروسكوب الالكتروني الماسح اظهرت بإن شكل المركب النانوي كان كرويا وحجومه (≤ 100 نانومتر). تم الاستنتاج بإن التركيب البلوري النانوي الكروي لاغشية السيليكا الرقيقة كُثفت بنجاح بواسطة ليزر الدايود (410nm).} }