@Article{, title={Model Calculation for Ion Implantation}, author={F. H. Saeed, J. M. Al-Mukh and S.I. Easa}, journal={Basrah Journal of Science (Bas J Sci) مجلة البصرة للعلوم}, volume={24}, number={1A english}, pages={109-118}, year={2006}, abstract={In this paper, the diffusion of gas atoms that injected by ion implantation intoa layer of certain thickness is studied and investigated by using the equation for thelocal gas atom concentration. The ion implantation in to multilayer membrane will beinvestigated and parameterized, with various situations will be discussed.Notablly, we assume that the implanted ion flux up on the surface dose not sputter thetarget atomes or in other words the coefficient of sputtering is small which means thatthe incident ions are light

في هذا البحث تمت دراسة عملية انتشار غاز ذري تم حقنه بالزرع الايوني في طبقة ما بسمك معين اذ تم فحصها باستخدام معادلةالتركيز الموقعي لذرات الغاز. فحصت عملية زرع الايونات في غشاء متعدد الطبقات وتمت مغايرا ونوقشت لحالات مختلفة. لقدافترضنا ان الفيض الايوني المزوع على السطح لا يحدث عملية سبترة لذرات الهدف او بكلمات اخرى ان معامل السبترة يكون صغيروالذي يعني ان الايونات الساقطة خفية.} }