@Article{, title={Design and Fabrication of Thin Film a-Si/Al2O3 Infrared Filter تصميم وتصنيع مرشح الأشعة تحت الحمراء نوع a-Si/Al2O3}, author={Dr. Khalid Khaleel Mohammad د. خالد خليل محمد and Mr. Saad Gazai سعد غزاي}, journal={AL-Rafidain Engineering Journal (AREJ) مجلة هندسة الرافدين}, volume={20}, number={4}, pages={60-68}, year={2012}, abstract={ABSTRACTLong-wavelength infrared filter operated at various temperature are critical for imaging applications. In this paper anew type of infrared filter is investigated, this infrared filter uses a crystalline silicon substrate coated with multi layers of aluminum oxide (AL2O3) and amorphous silicon (a-Si) to produce the multi layers thin film infrared filter a-Si/AL2O3 operating in the range (8-14)um. Amorphous silicon is used in this paper due to its high refractive index, while AL2O3 due to its low refractive index material. The a-Si/ AL2O3 thin film structure were designed using the Thin Film Design software (TF Calc 3.5.6 version). The simulated results obtained shows that the transmittance of the a-Si/ AL2O3 infrared filter with 19 layers is about 90% for (8-12.5) µm wavelength, while it is about 95% for 47 layers for (8.25-13.25) µm wavelength. The investigated filter was fabricated using vacuum evaporation process and the results obtained were comparable with the simulated one. The fabricated a-Si/ AL2O3 filter is compared with the Ge/ZnS infrared filter and it is found that the results is comparable but the cost of the fabricated filter is small compared to the Ge/ZnS filter.Keyword: Infrared Filter, Silicon, Aluminum Oxide.

الخلاصةيعتبر مرشح الموجة تحت الحمراء والذي يعمل بدرجات حرارة مختلفة من العناصر المهمة في التطبيقات الصورية. تم في هذا البحث اقتراح نوع جديد من مرشح الموجة تحت الحمراء مكون من طبقة أساسية من مادة السيلكون المتبلور ومرسب عليها طبقات عديدة من مادة أوكسيد الألمنيوم ومادة السيلكون العشوائي التركيب (a-Si) وذلك لتكوين مرشح الموجة تحت الحمراء ضمن الحزمة (8-14) m. تم استخدام مادة السيلكون العشوائي في البحث بسبب معامل انكساره العالي بينما تمتاز مادة أوكسيد الألمنيوم بمعامل انكسار واطئ ، وتمت عملية التصميم باستخدام البرنامج (TF calc 3.5.6 version) حيث تم الحصول على مرشح مكون من 19 طبقة وذات نفاذية مقدارها 82% للطول الموجي (8-12.5) m ، بينما كانت النفاذية بحدود 90% باستخدام 47 طبقة للطول الموجي (8-13.75) m. تم تصنيع المرشح المقترح باستخدام جهاز التبخير الفراغي وكانت النتائج قريبة جداً من نماذج التمثيل بالحاسوب. كذلك تمت مقارنة النتائج مع المرشح المكون من مادة الجرمانيوم ومادة كبريتيد الخارصين وكانت النتائج متقاربة ولكن مع كلفة قليلة للمرشح المقترح مقارنة مع المرشح المصنع من مادة الجرمانيوم ومادة كبريتيد الخارصين (Ga/ZnS).} }