TY - JOUR ID - TI - FABRICATION OF MO NANORODS ON SILICON WAFER USING GLANCING ANGLE DEPOSITION TECHNIQUE تصنيع قضبان المولبدينيوم النانوية على رقائق السليكون باستخدام تقنية الترسيب الزاوي الخاطف. AU - Dr.Mohammed D. Salman AU - Dr. Mushtaq I. Hasan AU - L.Haider J. Abid PY - 2013 VL - 6 IS - 2 SP - 139 EP - 147 JO - Al-Qadisiyah Journal for Engineering Sciences مجلة القادسية للعلوم الهندسية SN - 19984456 24117773 AB - Array of silicon nanorods with a circular cross section onto Mo nanopillars arrangement were grown using glancing angle deposition (GLAD) on Si (100).Deposition technique was used to fabricate Mo thin film on silicon flat surface. Teflon deposited on the tips of Mo nanorods at normal incident evaporation (θdep.is 0oC) with deposition time of (5 min.) to study the hydrophoposity and hydroplilicity of the surface. Morphology of Mo and Mo/Teflon nanocomposite was carried out using scanning electron microscope (SEM) which indicates a (100 nm) of mo thin film and Mo nanorods on silicon substrate. Contact angle measurement on nanocomposite Mo nanorods with Teflon grown on their tips exhibited contact angle values as high as (116o) indicating an increase in the hydrophopocity of original hydrophilic Mo nanostructures that had an angle of (40o).

تم تحضير مجموعة من اسطح السليكون بالمستوى النانوي من خلال ترسيب شريحة دائرية من اعمدة المولبدينيوم النانوية على تلك الاسطح باستخدام تقنية (GLAD). استخدمت تقنية الترسيب الاعتيادي لصنع طبقة رقيقة من الموليبيديوم على اسطح السيليكون المسطحة. رسب التفلون على اطراف اعمدة الموليبيديوم النانوية والتي سقطت بزاوية تبخر اعتيادية مساوية للدرجة صفر وبزمن (5) دقائق. لدراسة اسطح السليكون الكارهة والمحبة للماء. مورفولوجية اسطح الموليبيديوم و الموليبيديوم/تيفلون تمت دراستها باستخدام المجهر الالكتروني الماسح والذي اشار إلى وجود (100) نانومتر كطبقة رقيقة من المولبدينيوم و كذلك اعمدة المولبدينيوم النانوية على اسطح السيليكون. قياس زاوية الاتصال بين قطرة الماء و اعمدة المولبدينيوم النانوية المغطية بطبقة التفلون على نهاياتها اظهرت زاوية عالية تصل الى (116) درجة مظهرة اسطح نانوية كارهة للماء مقارنة مع الاسطح النانوية بدون التيفلون المحبة للماء بزاوية (40) درجة. ER -