@Article{, title={Enhancement of Porous Silicon Formation by Using Laser Irradiation تحسين تشكيل السيليكون المسامي باستخدام أشعة الليزر}, author={Aseel A. Hadi}, journal={Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا}, volume={31}, number={3 Part (B) Scientific}, pages={348-356}, year={2013}, abstract={In this work porous silicon where prepared by chemical etching assisted with laser. The structural and optical properties of porous silicon are investigated using atomic force microscopy (AFM) and FTIR spectroscope. FTIR spectrum exhibit the formation of SiHx (x=1,2) and Si-O bonds. The atomic force microscopy AFM investigation shows the surface roughness (RMS observed was 1.52nm with laser and 1. 86 nm without laser ) and pyramid like hillocks surface on entire surface which can be regarded as a condensation point to form small skeleton clusters which plays an important role for the strong visible luminescence.

في هذا العمل ، حضر سليكون مسامي بطريقه كيميائيه وبمساعده الليزر . تم دراسه الخصائص البصريه والتركيبه للسيلكون المسامي باستخدام مجهر القوى الذرية ومطياف FTIR. بين طيف FTIR تشكيل SiHx (x = 1،2) والاصره S-O. يظهر مجهر القوة الذرية AFM خشونة السطح ( لوحظ ان RMS 1.52nm مع ليزر و 1. 86 nm بدون الليزر ). وهرم مثل سطح التلال على كامل السطح والتي يمكن اعتبارها نقطة تكاثف لتشكيل مجموعات الصغيرة والتي تلعب دورا قويا في الاضاءه المرئيه.} }