TY - JOUR ID - TI - The Effect of Annealing on The Structural and Optical Properties of Copper Oxide Thin Films Prepared by SILAR Method تأثير التلدين على الخواص التركيبية والبصرية لأغشية اوكسيد النحاس المحضر بطريقة الترسيب بالطبقة الايونية المتعاقبة SILAR AU - Hayder M. Ajeel حيدر محمد عجيل AU - Shatha S. Batros Jam شذى شمعون بطرس AU - Ashwaq A. Jabor اشواق عبد الحسين جبر AU - Elham H. Nassir الهام هاني ناصر PY - 2014 VL - 11 IS - 2 عدد خاص بالمؤتمر النسوي الثاني SP - 718 EP - 729 JO - Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم SN - 20788665 24117986 AB - Copper oxide thin films were deposited on glass substrate using Successive Ionic Layer Adsorption and Reaction (SILAR) method at room temperature. The thickness of the thin films was around 0.43μm.Copper oxide thin films were annealed in air at (200, 300 and 400°C for 45min.The film structure properties were characterized by x-ray diffraction (XRD). XRD patterns indicated the presence of polycrystalline CuO. The average grain size is calculated from the X-rays pattern, it is found that the grain size increased with increasing annealing temperature. Optical transmitter microscope (OTM) and atomic force microscope (AFM) was also used. Direct band gap values of 2.2 eV for an annealed sample and (2, 1.5, 1.4) eV at 200, 300,400oC respectively.

رسبت أغشية اوكسيد النحاس على قواعد زجاجية باستخدام طريقة الترسيب بالطبقة الايونية المتعاقبة (SILAR) بدرجة حرارة الغرفة. اسمك الاغشية كانت بحدود 0.45 m.لدنت اغشية اوكسيد النحاس في الهواء بدرجات حرارة مختلفة (200, 300 and 400)°C لمدة 45 دقيقة . شخصت الخواص التركيبية باستخدام حيود الاشعة السينية (XRD) وتبين من نمط حيود الاشعة السينية ان المادة متعددة التبلور وقد تم حساب الحجم الحبيبي باستخدام نمط الحيود وتبين ازدياد الحجم الحبيبي بازدياد درجة حرارة التلدين . كذلك تم استخدام المجهر البصري النافذ ومجهر القوى الذرية . كانت قيمة فجوة الطاقة المباشرة للعينة بدون تلدين 2.2)) الكترون فولت والقيم (2, 1.5, 1.4) الكترون فولت لدرجات حرارة تلدين تتراوح ما بين (200,300,400)ºC على التوالي. ER -