TY - JOUR ID - TI - Oxygen Pressure Effect on Optical Properties and FTIR Results of MgO Thin Films Prepared Using RPLD Technique AU - Evan T. Salem PY - 2010 VL - 21 IS - 5 SP - 1 EP - 13 JO - Al-Mustansiriyah Journal of Science مجلة علوم المستنصرية SN - 1814635X 25213520 AB - In the present work, oxygen pressure effect on optical and FTIR spectrum of MgO dielectric oxide thin film has been carried out using Reactive Pulsed Laser as a Deposition technique (RPLD),werer (7nsec) Nd-YAG laser has been use to ablated pure Mg target and deposited on glass substrates. This has been done at different oxygen back ground pressure ranged from (150-300) mbar and constant substrate temperature of (423K).The result shows that the bond formation between Mg and oxygen atoms is directly depended on the back ground oxygen pressure. The optical properties of MgO films show that high transparency of about (80-85) % can be achieved with MgO film which it self decreases sharply with the decreasing of oxygen pressure. While the optical ban gap is 5.01eV at optimum oxygen pressure of (200) mbar.

في هذا البحث تم دراسة تاثير ضغط غاز الاوكسجين المستخدم كوسط ترسيب على الخصائص البصريه ونتائج تحويلات فورير للمنطقة تحت الحمراء لاغشية اوكسيد المغنيسيوم الشفافة الموصلة باستخدام تقنية الترسيب بالليزر النبضي الفعالة باستخدام ليزر الندميوم ياك والذي يعمل بامد نبضة (7nsec) على قاعدة من الزجاج عند ضغوط مختلفة لاوكسجين تمتد بين (150-350mbar) وعند درجة حرارة قاعدة (423K). اظهرت نتائج الخصائص البصرية لاوكسيد المغنيسيوم ان فجوة الطاقة عند افضل الشروط(200mbar) هي (5.01eV). كما ان نسبة النفاذية لاوكسيد المغنيسيوم كانت عالية وتصل الى (85%) ووجدت بانها تقل مع نقصان ضغط الاوكسجين المحيط ER -