Fulltext

The Influence of RF power, pressure and substrate temperature on optical properties of RF Sputtered vanadium pentoxide thin films

تاثير الطاقة والضغط ودرجة حرارة الركيزة على الخصائص البصرية للاغشية الرقيقة لخامس اوكسيد الفاناديوم باستخدام الترذيذ بالترددات الراديوية

Ibrahim K. salman إبراهيم خلف سلمان --- N.K. Hassan نديم خالد حسن --- Mohammed K. Khalaf محمد خماس خلف

Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء
ISSN: 20704003 Year: 2018 Volume: 16 Issue: 39 Pages: 42-47
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Abstract

The V2O5 films were deposited on glass substrates which produce using "radio frequency (RF)"power supply and Argon gas technique. The optical properties were investigated by, UV spectroscopy at "radio frequency" (RF) power ranging from 75 - 150 Watt and gas pressure, (0.03, 0.05 and 0.007 Torr), and substrate temperature (359, 373,473 and 573) K. The UV-Visible analysis shows that the average transmittance of all films in the range 40-65 %. When the thickness has been increased the transhumance was decreased from (65-40) %. The values of energy band gap were lowered from (3.02-2.9 eV) with the increase of thickness the films in relation to an increase in power, The energy gap decreased (2.8 - 2.7) eV with an increase in the pressure and substrate temperature respectively.

تم ترسيب أغشية رقيقة من خامس اكسيد الفاناديوم على ركائز زجاجية التي تنتج باستخدام طاقة التردد الراديوي وتقنية غاز الأرجون، وتم بحث الخواص البصرية بواسطة دراسة مطيافية مرئية فوق بنفسجية عند قدرة التردد الراديوي من 75 - 150 واط وضغط الغاز 0.03 تور، .050 تور و 0.007 تور، ودرجة حرارة الركيزة (359، 373، 473 و 573) كلفن. أظهر التحليل الطيفي المرئي و للأشعة فوق البنفسجية أن متوسط نفاذ جميع الأغشية يكمن في نطاق 40-65 ٪ و عندما زاد السمك انخفضت نسبة الانتقال مـــن (65 -40) %. و انخفضت فجوة النطاق الضوئي للغشاء من 3.02 إلى 2.9 الكترون فولت, مع زيادة سماكة الأغشية مقارنة بالزيادة في القدرة، من ناحية أخرى انخفضت فجوة النطاق من 2.8 إلى 2.7 الكترون فولت, مع زيادة الضغط ودرجة حرارة الركيزة على التوالي.

Keywords

V2O5 --- RF sputtering --- thin films --- optical properties.