Fulltext

Chemical Spray Deposition for Tellurium Thin Film

Janan H. Saadee

Journal of University of Babylon مجلة جامعة بابل
ISSN: 19920652 23128135 Year: 2013 Volume: 21 Issue: 3 Pages: 981-986
Publisher: Babylon University جامعة بابل

Abstract

In this work, a chemical spray pyrolysis thin film of Tellurium has been reported. The film is deposited on thin glass substrate at temperature of 498 ± 283 K to study its structure and electrical properties. The electrical properties are studied through variation of resistivity with temperature in the thermal range of 313 to 473 K as well as measurement of electrical conductivity and activation energy are performed. The results of Hall's effect showed that the prepared film is P-type. X-ray diffraction spectrum has shown that the prepared film has polycrystalline structure and peaks for Tellurium hexagonal structure. Also, the microstructure analysis using optical microscope illustrated the contrast of topography of this thin film which showed highest homogeneity and regularity

تم فى هذا البحث أستخدام طريقة الرش الكيميائي الحراري لتحضير غشاء التلريوم الرقيق وترسيبه على قواعد زجاجيه رقيقه مسخنة الى درجة حرارة 498± 283 كلفن لدراسة خصائصه التركيبيه والكهربائيه . حيث تم دراسة الخصائص الكهربائية لهذا الغشاء من خلال تغيير المقاوميه مع درجة الحرارة ضمن المدى الحرارى 313 الى 473 كلفن وحساب التوصيلية الكهربائية كداله لدرجة الحرارة التي اعتمدت في تحديد طاقات التنشيط. بينت نتائج تأ ثير هول ان الغشاء المحضر يمتلك توصيلية كهربائية من النوع الموجب كما و بينت نتائج حيود الأشعة السينية ان الغشاء المحضر ذات تركيب متعدد البلورات (Polycrystalline). و قمما للتلريوم ذات تركيب سداسي(Hexagonal structure). أظهرت نتائج تحليلات التركيب الدقيق باعتماد المجهر الضوئي العاكس أن الغشاء المحضر ذات تجانس وانتظام عاليين،