Fulltext

Treatment of Furfural Wastewater by (AOPs) Photo-Fenton Method

معالجة المياه الملوثة بالفورفورال باستخدام عمليات الاكسدة المتقدمة(طريقة الفوتوفنتون)

Yasmen A. Mustafa ياسمين عبد العزيز مصطفى --- Raid Raho Omran رائد رهو عمران

Journal of Engineering مجلة الهندسة
ISSN: 17264073 25203339 Year: 2015 Volume: 21 Issue: 3 Pages: 129-141
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Abstract

The objective of this study is to investigate the application of advanced oxidation processes (AOPs) in the treatment of wastewater contaminated with furfural. The AOPs investigated is the homogeneous photo-Fenton (UV/H2O2/Fe+2) process. The experiments were conducted by using cylindrical stainless steel batch photo-reactor. The influence of different variables: initial concentration of H2O2 (300-1300mg/L), Fe+2(20-70mg/L), pH(2-7) and initial concentration of furfural (50-300 mg/L) and their relationship with the mineralization efficiency were studied. Complete mineralization for the system UV/H2O2/Fe+2 was achieved at: initial H2O2 = 1300mg/L, Fe+2 = 30mg/L, pH=3, temperature =30oC and irradiation time of 60 min, for 300mg/L furfural concentration. The results have shown that the oxidation reagent H2O2 plays a very important role in the furfural mineralization.

الهدف من هذا البحث دراسة معالجة المياه الملوثة بمادة الفورفورال باستخدام احد طرق الاكسدة المتقدمة(AOPs) . حيث تم استخدام نظام الاكسدة المتجانسة (UV/H2O2/Fe+2, photo-Fenton process). التجارب تم اجرائها باستخدام مفاعل اسطواني مصنوع من الفولاذ المقاوم للصدأ يعمل بنظام الوجبات. تاثيرالمتغيرات المختلفة مثل: التركيز الابتدائي لل H2O2 1300mg/L) (300-و Fe+2(20-70mg/L) وpH (2-7) والتركيز الابتدائي للفورفورال(50-300 mg/L) تم دراستها ودراسة علاقتها مع كفاءة التحلل للفورفورال. بينت التجارب ان التحلل الكامل للفورفورال بتركيز mg/L 003 تم باستخدام H2O2=1300mg/L وFe+2 =30mg/L وبظروف حامضية pH=3 ودرجة حرارة 30oC وبوقت 60 دقيقة . النتائج بينت ان تركيز العامل المؤكسد H2O2 له دور مهم في عملية الاكسدة.

Keywords

Advanced oxidation process --- UV --- Furfural --- Photo-Fenton process --- H2O2.