research centers


Search results: Found 6

Listing 1 - 6 of 6
Sort by

Article
The Effects of Sputtering Time on Cds Thin Film Solar Cell Deposited by DC Plasma Sputtering Method

Authors: Azhar K. Sadkhan --- Mohammed K. Khalaf
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2018 Volume: 36 Issue: 2 Part (C) Pages: 123-127
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

CdS thin films of different thickness have been prepared by dcsputtering technique on glass slides for a window layer of solar cells. The CdStarget were sputtered in different sputtering times (1,1.5,2.5,3) hrs, workingpressure (2×10-2) mbar and discharge voltage(2) kV.The structure of thenanoparticles films was investigated of CdS thin films by X-ray diffraction(XRD).The XRD patterns showed that the films were hexagonal (wurtzite)structure having strong preferential orientation along the (002) plane withparticle size in the range of (41.04-41.46-41.88-42.53) nm, the peak at (002)preferred orientations of the films are shifted a little from left to right side andfilms converted to crystalline form. The morphology of the nanoparticles filmswas studied by atomic force microscopy (AFM) which indicates that theaverage grain size of CdS thin film is in the range of (41.3-44.2-51.6-50.08) nm.The roughness of films surface increases with increasing the sputtering time,which can be useful for the solar cell.


Article
Spectroscopic and structural studies of cadmium oxide thin films prepared by D.C magnetron sputtering
الدراسات الطيفية والتركيبية لاغشية أوكسيد الكادميوم الرقيقة المحضرة بطريقة الترذيذ المغناطيسي بالتيار المستمر

Loading...
Loading...
Abstract

Cadmium oxide thin films were prepared by D.C magnetron plasma sputtering using different voltages (700, 800, 900, 1000, 1100 and 1200) Volt. The Cadmium oxide structural properties using XRD analysis for just a voltage of 1200 volt at room temperature after annealing in different temperatures (523 and 623) K were studied .The results show that the films prepared at room temperature have some peaks belong to cadmium element along the directions (002), (100), (102) and (103) while the other peaks along the directions of (111), (200) and (222) belong to cadmium oxide. Annealed samples display only cadmium oxide peaks. Also, the spectroscopic properties of plasma diagnostic for CdO thin films were determined and the results show that the electron temperature and electron density increase with increasing of sputtered voltage.

تم تحضير أغشية اوكسيد الكادميوم الرقيقة بطريقة الترذيذ المغناطيسي بالتيار المستمر بأستخدام فولتيات ترسيب مختلفة V(700, 800, 900, 1000, 1100, 1200) حيث درست الخصائص التركيبية باستخدام تحليل حيود الاشعة السينية (XRD) عند فولتية الترسيب V(1200) فقط في درجة حرارة الغرفة وبعد التلدين في درجات حرارة مختلفة K(523, 623) وبينت النتائج أن الاغشية المحضرة في درجة حرارة الغرفة فيها قمم تنتمي الى عنصر الكادميوم على طول الاتجاهات للمستويات (002), (100), (102) و (103) وقمم أخرى تنتمي الى أوكسيد الكادميوم على طول الاتجاهات للمستويات (111), (200) و (222) كذلك تم تشخيص البلازما من خلال تحديد الخصائص الطيفية لاغشية اوكسيد الكادميوم الرقيقة وبينت النتائج أن درجة الحرارة والكثافة العددية للألكترونات تزداد بزيادة فولتية الترسيب.


Article
Electrical glow discharges and plasma parameter of planar sputtering system for silver target
دراسة معلمات التفريغ الكهربائي لمنظومة الترذيذ المستمر لهدف مسطح من الفضة

Author: Mazin H. Hasan مازن حامد حسن
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2018 Volume: 16 Issue: 37 Pages: 65-72
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

DC planar sputtering system is characterized by varying discharge potential of (250-2000 volt) and Argon gas pressures of (3.5×10-2 – 1.5) mbar. The breakdown voltage for silver electrode was studied with a uniform electric field at different discharge distances, as well as plasma parameters. The breakdown voltage is a product of the Argon gas pressure inside the chamber and gab distance between the electrodes, represent as Paschen curve. The Current-voltage characteristics curves indicate that the electrical discharge plasma is working in the abnormal glow region. Plasma parameters were found from the current-voltage characteristics of a single probe positioned at the inter-cathode space. Typical values of the electron temperature and the electron density are in the range of (2.93 –5.3) eV and (10-16 -10-17) m-3 respectively.

لقد تم في هذا البحث دراسة الخصائص الكهربائية ومعلمات البلازما لمنظومة الترذيذ المستمر مصنعة محليا, من خلال تغير فرق الجهد الكهربائي (250-2000) فولت وتغير ضغط غاز حجرة التفريغ (3.5×10-2– (1.5ملي بار. فولتية الانهيار, ضغط غاز الاركون, المسافة بين اقطاب الفضة هي المتغيرات الخارجية المستخدمة. لقد تم دراسة خصاص التفريغ الكهربائي من خلال توصيف منحني تيار التفريغ الكهربائي – الفولتية المجهزة, منحني باشنت, و منحني تيار التفريغ- ضغط الغاز السلط. كذلك تم دراسة خصائص البلازما المنتجة بأستخدام مجس لاتكميور في المنطقة الداخلية لعامود البلازما. حيث تبين ان قيم درجة حرارة الالكترونات (2.93 –5.3) الكترون فولت وكثافة الالكترونات (10-16-10-17).


Article
The Effect of Cadmium Selenide Thin Film Thickness on Carbon Monoxide Gas Sensing Properties prepared by Plasma DC-Sputtering Technique

Author: Baha'a A. M. Al-Hilli
Journal: Iraqi Journal of Science المجلة العراقية للعلوم ISSN: 00672904/23121637 Year: 2018 Volume: 59 Issue: 4C Pages: 2234-2241
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

Cadmium Selenide (CdSe) thin films have been deposited on a glass substrate utilizing the plasma DC-sputtering method at room temperature at different deposition time in order to achieve different films thickness, and studied its sensitivity to the carbon monoxide CO gas which are show high response as the film thickness increases, the DC-conductivity and photoconductivity are also studied and which are increased too as the film thickness increases, that indicates the good semiconducting behavior at room temperature and light environments.


Article
A Comparative Study on the Electrical Characteristics of Generating Plasma by Using Different Target Sources
دراسة مقارنه للخصائص الكهربائية للبلازما المتولدة من أهداف مختلفة

Authors: Sarah K. Taha سارة خضير طه --- Sabah N. Mazhir صباح نوري مزهر --- Mohammed K. Khalaf محمد خماس خلف
Journal: Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم ISSN: 20788665 24117986 Year: 2018 Volume: 15 Issue: 4 Pages: 436-440
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

In this research, the electrical characteristics of glow discharge plasma were studied. Glow discharge plasma generated in a home-made DC magnetron sputtering system, and a DC-power supply of high voltage as input to the discharge electrodes were both utilized. The distance between two electrodes is 4cm. The gas used to produce plasma is argon gas which flows inside the chamber at a rate of 40 sccm. The influence of work function for different target materials (gold, copper, and silver), - 5cm in diameter and around 1mm thickness - different working pressures, and different applied voltages on electrical characteristics (discharge current, discharge potential, and Paschen’s curve) were studied. The results showed that the discharge current and potential increase by increasing the applied voltage ranging between 300-700 V. Discharge current increased as working pressure increased in the beginning, and then semi-stabilized (slight increase) starting from 1×100 mbar, while discharge potential decreased at the beginning as working pressure increased and then semi-stabilized at the same point at which discharge current stabilized. The Paschen’s curves were compared with each other. It was concluded that the lower breakdown voltage was associated with lower work function of the (Au, Cu, and Ag) cathode material. Breakdown voltages were (395, 398, and 420) for Ag, Cu and Au respectively.

تم في هذا البحث دراسة الخصائص الكهربائية لبلازما التفريغ التوهجي باستخدام منظومة الترذيذ الماكنتروني ذات التيار المستمر المحلية الصنع لتوليد بلازما التفريغ. كذلك أستخدم غاز الاركون لانتاج البلازما بمعدل تدفقSccm 40 وبمسافة فاصلة بين الاقطاب بمقدار cm4 وباستخدام مجهز قدرة عالي الفولتية. تم دراسة تأثير كل من دالة الشغل لاهداف مختلفة (ذهب، فضة ، نحاس) - بقطر 5 سم وسمك 1 ملم- على الفولتية المسلطة وضغط التشغيل على الخصائص الكهربائية (تيار التفريغ، جهد الكاثود ومنحنى باشن). أظهرت النتائج ان كلا من تيار التفريغ وجهد الكاثود يزداد بزيادة الفولتية المسلطة والذي يتراوح بين 300-700. ان تيار التفريغ يزداد مع زيادة الضغط المسلط في البداية ثم يستقر نسبياَ عند ضغط (زيادة ضئيلة ) ابتدأ من mbar1. بينما يقل جهد الكاثود مع زيادة الضغط المسلط ثم يستقر في نفس النقطة التي استقر فيها تيار التفريغ.لقد قورنت منحنيات باشن مع بعضها بالاعتماد على نوع مادة الهدف. وتم الاستنتاج ان جهد الانهيار يرتبط بدالة الشغل لكل من الذهب والفضة والنحاس.


Article
Study of Utilization of Ferric Oxide Thin Films as a Nitrogen Dioxide Gas Sensor
دراسة وإستخدام أغشية أوكسيد الحديد كمتحسس لغاز ثاني أوكسيد النايتروجين

Authors: Baha'a A.M. Al-Hilli --- Nabeel M. Mirza
Journal: journal of the college of basic education مجلة كلية التربية الاساسية ISSN: 18157467 Year: 2018 Volume: 24 Issue: 102 / علمي Pages: 47-54
Publisher: Al-Mustansyriah University الجامعة المستنصرية

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, we investigate and synthesis a (NO2) gas sensing properties of Ferric oxide (Fe2O3) thin films are prepared using magnetron DC- sputtering technique, using different thicknesses concurring various deposition times. Each film is tested with different sample temperature (200, 250 and 300) oC in order to enhance gas sensitivity. The results reveal that the films sensitivity increases as the film thickness decreases (lower grain size), and the gas sensitivity increases also with the increasing operating temperature.

في هذا البحث تم دراسة خصائص التحسسية لغاز ثنائي أوكسيد الناتروجين (NO2) من أغشية أوكسيد الحديد النانوية (Fe2O3) المحضرة بطريقة الترذيذ الماكنتروني بتيار مستمر (Magnetron DC-Sputtering) على قاعدة زجاجية وبأسماك مختلفة أعتمادا على ظروف الترسيب. تم قياس تحسسية هذه الاغشية لدرجات حرارة مختلفة (200, 250, 300 oC). وقد بينت نتائج هذه الدراسة زيادة التحسسية الغازية كلما كان الغشاء أقل سمكاً (حجم حبيبي أصغر)، وكذلك زيادة التحسسية الغازية بزيادة درجة حرارة التشغيل.

Listing 1 - 6 of 6
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (6)


Language

English (4)

Arabic (1)


Year
From To Submit

2018 (6)