research centers


Search results: Found 3

Listing 1 - 3 of 3
Sort by

Article
Statistical Analysis study different between wet and dry etching
دراسة الاختلاف بين الحفر الجاف والرطب باستخدام الاحصاء التحليلي

Author: Intessar K.Abd انتصار كاظم عبد
Journal: Diyala Journal For Pure Science مجلة ديالى للعلوم الصرفة ISSN: 83732222 25189255 Year: 2014 Volume: 10 Issue: 1 Pages: 60-64
Publisher: Diyala University جامعة ديالى

Loading...
Loading...
Abstract

In this paper a statistical analysis was studied, the different between wet and dry etching was analysis by using Chi-Square distribution. The statically result show that dry processes have etch rates with anisotropic etching more than wet etching process .These results were agree with published data and researches results

تم في هذا البحث دراسة الاختلاف بين تقنيات الحفر الجاف والرطب بأعتماد الاحصاء التحليلي بأستخدام توزيع كاي ( أختبار يتعلق بالنسب لتوزيع متعدد الحدود ). لقد بينت النتائج الاحصائية أن تقنية الحفر الجاف تمتلك معدلات حفر مع نوعية حفر غير موحد الخواص أكثر بكثير من تقنية الحفر الرطب . وقد جاءت هذه النتائج متوافقة مع البيانات والبحوث المنشورة .


Article
Etch of Si-wafer using CF3Br plasma and KOH solution
حفر السليكون باستعمال بلازما CF3Br والمحلول الكيميائي KOH

Author: Intessar K.abd انتصار كاظم عبد
Journal: Diyala Journal For Pure Science مجلة ديالى للعلوم الصرفة ISSN: 83732222 25189255 Year: 2012 Volume: 8 Issue: 3 - part 2 Pages: 400-406
Publisher: Diyala University جامعة ديالى

Loading...
Loading...
Abstract

In this study wet etching was used to etch Si-wafers by KOH solution at different concentrations .The results showed that decreasing of the etching rate at higher KOH concentration produces smooth surface. On the other hand ,it has been observed that the etching rate increases by using CF3Br plasma and lower KOH concentrations producing rough surface.

في هذا البحث تم استخدام الحفر الرطب لعينات السيليكون باستخدام المحلول الكيميائي KOH باختلاف التراكيز، لقد تم الحصول على معدل حفر قليل باستخدام التركيز العالي للمحلول KOH تم ملاحظة نعومة سطح العينات المحفورة، كما لاحظنا حصول زيادة في معدل الحفر لعينات السيليكون عند استخدام بلازما CF3Br واستخدام التركيز الواطئ لمحلول KOH مع ملاحظة خشونة حاصلة على سطح العينات المحفورة.

Keywords

plasma --- ething --- Si --- KOH --- CF3Br


Article
Effect of Cu doping on optical properties of Mn2O3 films prepared by spray pyrolysis
تأثير التشويب بالنحاس على الخواص البصرية لأغشية أوكسيد المنغنيز المحضرة بطريقة التحلل الكيميائي الحراري

Loading...
Loading...
Abstract

Thin films of Mn2O3 doped with Cu have been fabricated using the simplest and cheapest chemical spray pyrolysis technique onto a glass substrate heated up to 250 oC. Transmittance and absorptance spectra were studied in the wavelength range (300 -1100) nm. The average transmittance at low energy was about 60% and decrease with Cu doping, Optical constants like refractive index, extinction coefficient and dielectric constants (εr), (εi) are calculated and correlated with doping process.

حضرت أغشية رقيقة من اوكسيد المنغنيز و اوكسيد المنغنيز المشوب بالنحاس بطريقة التحلل الكيميائي الحراري البسيطة والواطئة الكلفة على قواعد زجاجية مسخنة لغاية 250 oC. سجلت قيم الامتصاصية والنفاذية في مدى الأطوال الموجية (300-1100) nm . كان معدل النفاذية عند الطاقات الواطئة بحدود60% ويقل بالتشويبCuO ، الثوابت البصرية كمعامل الانكسار، معامل الخمود و ثوابت العزل (εr),( εi) حسبت وربطت مع نسبة الاشابة.

Listing 1 - 3 of 3
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (3)


Language

English (3)


Year
From To Submit

2014 (1)

2012 (2)