research centers


Search results: Found 2

Listing 1 - 2 of 2
Sort by

Article
Effects of Discharge Current and Target Thickness in Dc-Magnetron Sputtering on Grain Size of Copper Deposited Samples
تأثير تيار التفريغ وسمك الهدف في الترذيذ المغناطيسي المستمر على حجم حبيبات النحاس في النماذج المرسبة

Authors: Khalid A. Yahya خالد عباس يحيى --- Ban F. Rasheed بان فيصل رشيد
Journal: Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم ISSN: 20788665 24117986 Year: 2019 Volume: 16 Issue: 1 Pages: 84-87
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

A study of the effects of the discharge (sputtering) currents (60-75 mA) and the thickness of copper target (0.037, 0.055 and 0.085 mm) on the prepared samples was performed. These samples were deposited with pure copper on a glass substrate using dc magnetron sputtering with a magnetic flux density of 150 gauss at the center. The effects of these two parameters were studied on the height, diameter, and size of the deposition copper grains as well as the roughness of surface samples using atomic force microscopy (AFM).The results of this study showed that it is possible to control the specifications of copper grains by changing the discharge currents and the thickness of the target material. The increase in discharge current values led to a decrease in height copper grain's values of 20% at a current of 75 mA and target thickness of 0.085 mm. Furthermore, the increasing in the current caused a decrease in the diameter and size values of deposition copper grains. Finally, the surface roughness of the samples was reduced by a 15% by changing the current and target material thickness at 75 mA and 0.085mm respectively.

ان تأثير تيار التفريغ (الترذيذ) (60-75 ) ملي امبير وسمك النحاس الهدف (0.037, 0.055, 0.085) ملم على النماذج الزجاجية المحضرة والمرسب عليها النحاس النقي بواسطة منظومة الترذيذ بالماكنترون المستمر قد تمت دراستها في هذا البحث. درس تأثير هذين العاملين على ارتفاع وقطر وحجم حبيبات النحاس المرسبة وكذلك تمت دراسة الخشونة لسطح النماذج المحضرة بأستخدام مجهر القوة الذرية (AFM). تبين من النتائج انه بالامكان السيطرة على خصائص حبيبات النحاس المرسية عن طريق تغيير تيار التفريغ وسمك مادة النحاس الهدف. ان زيادة تيار التفريغ ادى الى تقليل ارتفاع حبيبات النحاس بنسبة 20% عند تيار 75 ملي امبير وسمك هدف 0.085 ملم.اضافة الى ذلك ان زيادة تيار التفريغ ادى الى تقليل قطر وحجم الحبيبات, وكذلك فان خشونة السطح قلت بنسبة 15% بتغيير التيار الى 75 ملي امبير عند سمك هدف 0.085 ملم.


Article
Study of Density Distribution in Entrained Plasma
دراسة توزيع الكثافة داخل البلازما

Authors: Zaidun A.Hafidh زيدون أحمد حافظ --- Sabah N.Mazher صباح نوري مزهر --- Khalid A.Yahya خالد عباس يحيى
Journal: Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم ISSN: 20788665 24117986 Year: 2007 Volume: 4 Issue: 2 Pages: 305-309
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

A theoretical investigation is carried out to study the effect of a pencil electron beam propagating inside the plasma region determining the hydrodynamic densities distribution with the aid of numerical analysis finite deference method (FDM).The plasma is generated and trapped by annular electron beams of fixed electron density 1x1014 m-3. The result of the study shows that the hydrodynamic density behaves as the increase in pencil electron beam. The hydrodynamic density ratio goes to more than double as the increase in pencil electron beam density to 1x1018 m-3.

لقد اجريت دراسة نظرية لدراسة تأثير حزمة ألكترونية أصبعية (Pencil electron beam) تنفذ داخل البلازما لأيجاد الكثافة الهيدروداينميكية بأستخدام طريقة الفروقات المحددة .البلازما تولد وتصطاد عن طريق حزمة الكترونية حلقية (Annular electron beam ) وبكثافة الكتروتية مقدارها 1x1014 m-3 . وبينت نتائج الدراسة بأنه بزيادة الكثافة الألكترونية للحزمة الأصبعية تزداد الكثافة الهيدروداينميكة بحيث أن نسبة الكثافة الهدرودانيميكية تزداد الى أكثر من ضعف وذلك عند زيادة الكثافة الكترونية للحزمة الأصبعبة 1x1018 m-3 داخل البلازما .

Keywords

Listing 1 - 2 of 2
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (2)


Language

English (2)


Year
From To Submit

2019 (1)

2007 (1)