research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
The Structure and Electrical Properties of Porous Silicon Prepared by Electrochemical Etching
الخصائص التركيبية و الكهربائية للسليكون المسامي المحضر بطريقة القشط الكهروكيميائي

Author: Narges Zamil Abdulzahra نرجس زامل عبد الزهرة
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2011 Volume: 9 Issue: 15 Pages: 94-101
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

Porous silicon was prepared by using electrochemical etching process. The structure, electrical, and photoelectrical properties had been performed. Scanning Electron Microscope (SEM) observations of porous silicon layers were obtained before and after rapid thermal oxidation process. The rapid thermal oxidation process did not modify the morphology of porous layers. The unique observation was the pore size decreased after oxidation; pore number and shape were conserved. The wall size which separated between pore was increased after oxidation and that effected on charge transport mechanism of PS.

في هذا العمل ، تم تحضير السليكون المسامي باستخدام طريقة القشط الكهروكيميائي. الخصائص التركيبية،الكهربائية والخصائص الكهروضوئية تم انجازها. ملاحظات المجهر الالكتروني الماسح لطبقة السليكون المسامي تم الحصول عليها قبل وبعد عملية الأكسدة الحرارية السريعة. عملية الأكسدة الحرارية السريعة لاتحور طبوغرافية طبقة السليكون المسامي . الملاحظة الوحيدة كانت حجم المسام يقل بعد عملية الأكسدة. بالإضافة إلى ذلك ,كثافة المسام بقية محفوظة. حجم الجدار الذي يفصل بين المسام ازداد بعد عملية الأكسدة وهذا اثر على ميكانيكية انتقال الشحنة للسليكون المسامي .

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2011 (1)