A new computer-generated optical element called a monochrome image hologram (MIH) is described. A real nonnegative function to represent the transmittance of a synthesized hologram is used. This technique uses the positions of the samples in the synthesized hologram to record the phase information of a complex wavefront. Synthesized hologram is displayed on laser printer and is recorded on a film. Finally the reconstruction process is done using computerized .

في هذا البحث تم توليد عنصر بصري جديد باستخدام تقنية الهولوغرامات المولدة حاسوبياً تسمى الهولوغرامات الصور احادية اللون. وتم استخدام دالة حقيقية موجبة لتمثيل شكل هذا الهولوغرام. معلومة الطور لجبهة الموجة لهذه الصورة سوف تسجل على فلم لصناعة العنصر البصري.

The electrical properties of pure NiO and NiO:Au Films which are deposited on glass substrate with various dopant concentrations (1wt.%,2wt%, 3wt.% and 4wt.%) at room temperature 450Co annealing temperature will be presented. The results of the hall effectshowed that all the films were p-type. The Hall mobility decreases while both carrier concentration and conductivity increases with the increasing of annealing temperatures and doping percentage, Thus, indicating the behavior of semiconductor, and also the D.C conductivity from which the activation energy decrease with the doping concentration increase and transport mechanism of the charge carriers can be estimated.

الخواص الكهربائية للاغشية الرقيقة لاوكسيد النيكل النقي والمشوب بالذهب المرسبة على الزجاج بتراكيز تشويب مختلفهwt.%,2wt%, 3wt.% and 4wt.%) 1) بدرجة حرارة الغرفة ودرجة حرارة التلدين450 ̊C. نتائج تاثير هول بينت ان كل الافلام P- type. تحركية هول تقل بينما كل من تركيز الحاملات والتوصيلية تزداد مع زيادة درجة حرارة التلدين ونسبة التشويب, مما يدل على سلوك اشباة الموصلات. من خلال توصيلية ال D.C فان طاقة التنشيط تقل مع زيادة تركيز التشويب ويمكن حساب الية النقل لحاملات الشحنة.

NiO:Au --- thin films --- Pulsed laser deposition.

In this paper we reported the microfabrication of three-dimensional structures using two-photon polymerization (2PP) in a mixture of MEH-PPV and an acrylic resin. Femtosecond laser operating at 800nm was employed for the two-photon polymerization processes. As a first step in this project we obtained the better composition in order to fabricate microstructers of MEH-PPV in the resin via two-photon polymerzation.Acknowledgement:This research is support by Mazur Group, Harvrad Universirt.

في هذه البحث تم الحصول على تراكيبِ دقيقة ثلاثية الأبعادِ عن طريق استخدام طريقة البلمرة بفوتونين (2 PP) وبمزج MEH PPV و أكريليكِ الراتنج, واستخدم ليزرِ جزء من ألف مليون مليون من الثانيةِ ذات طول موجيnm 800 لعملياتِ البلمرة بفوتونين. وكخطوة اولى في هذا البحث حَصلنَا على التركيبِ الأفضلِ مِنْ MEH PPV في الراتنجِ لصناعةَ التراكيبِ الدقيقة الثلاثية الأبعادِ عن طريق البلمرة بفوتونين.

A simple, inexpensive, and home–built electrostatic spray deposition (ESD) system with stable cone-jet mode was used to obtain nickel oxide (NiO) thin films on glass substrates kept at temperature of 400°C. The primary precursor solution of 0.1 M concentration hydrated nickel chloride dissolved in isopropyl alcohol. The structural, optical and electrical parameters were studied. The optical absorbance spectra for the studied samples showed its maximum around 280 nm. On the other hand, thickness interferometry measurements on the tested samples showed that film thickness was around 400 nm. The optical energy gap of the prepared NiO samples was determined to be 3.75 eV and the maximum value of refractive index was determined to be 2.1 at 350 nm.

تم استخدام طريقة ترسيب الرش الكهربائي المستقر البسيطة وغير المكلفة والمتجانسة للحصول على اغشية رقيقة لاوكسيد النيكل المرسبة على قواعد زجاجية بدرجة حرارية 400 سيليزي. المحلول الاولي كان كلورايد النيكل المهدرج المذاب في ايسوبروبيل الكحول بتركيز 0.1 مولاري.ثم دراسة الخصائص التركيبية والكهربائية والبصرية ولذلك طيف الامتصاص البصري للاغشية المحضرة اظهرت اعلى قيمة لها عند الطول الموجي 280 نانو متر. وكذلك ،تم قياس السمك بطريقة التداخل البصري حيث ان سمك الاغشية كان حوالي 400 نانومتر. فجوة الطاقة البصرية للاغشية والعينات المحضرة حددت ب 3.75 الكترون فولت واقصى قيمة لمعامل الانكسار كان بحدود 2.1 عند 350 نانومتر.

Electrostatic spray deposition --- Nickel oxide --- Thin films --- Optical properties