research centers


Search results: Found 18

Listing 1 - 10 of 18 << page
of 2
>>
Sort by

Article
Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films
الترسيب بالترذيذ التفاعلي لل DC ماكنترون والخواص التركيبية لاغشية اوكسيد النيكل

Authors: Ibrahim R. Agool --- Mohammed K. Khalaf --- Shaimaa H. Abd Muslim --- Riyadh N. Talaq
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2015 Volume: 33 Issue: 6 Part (B) Scientific Pages: 1082-1092
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

Nickel oxide (NiO) films were deposited by using a homemade DC reactive magnetron sputtering system at different working pressure in the range (0.05-0.14)mbar. The effect of working pressure on the structure, surface morphology, optical of NiO films was investigated. X-ray diffraction (XRD) results suggested that the deposited films were formed by nanoparticles with average particle size in the range of (8.145-29.195) nm. And the films are identified to be polycrystalline nature with a cubic structure along (111) and (101) orientation also Ni2O3 was found by XRD. The texture of the films was observed using SEM and AFM, it was observed that the grain size was increased with working pressure. The energy band gap was found to be in the range of (4.1 eV to 3.9 eV) When the film thickness varying from 73 nm to 146.9 nm.

تم ترسيب اغشية اوكسيد النيكل(NiO) بأستخدام منظومة بلازما الماكنترون للتيارات المستمرة المحلية الصنع وبطريقة الترذيذ التفاعلي وبضغوط عمل مختلفة ضمن المدى (0.05-0.14) ملي بار. وقد تم دراسة تأثير ضغط العمل على تركيب ومورفولوجية السطح والخواص البصرية لاغشية اوكسيد النيكل .واقد اظهرت نتائج حيود الاشعة السينية ان الاغشية المترسبة ذات تركيب نانوي وبمعدل حجم حبيبي بين (8.145-29.195) نانومتر.بالاضافة لكون الاغشية ذات طابع متعدد التبلور مع بنية مكعبة على طول (111) و(101) التوجه. وعلاوة على ذلك تم العثور على Ni2O3بواسطة حيود الاشعة السينية. كما تم دراسة تركيب الاغشية باستخدام SEM وAFM ، وقد لوحظ زيادة حجم الحبوب مع زيادة ضغط العمل.وقد وجد ان فجوة الطاقة في حدود (4.1 الكترون-فولت الى 3.9 الكترون-فولت) عندما يكون سمك الغشاء يتراوح بين 73 نانومتر إلى 146.9 نانومتر.


Article
Effects of Discharge Current and Target Thickness in Dc-Magnetron Sputtering on Grain Size of Copper Deposited Samples
تأثير تيار التفريغ وسمك الهدف في الترذيذ المغناطيسي المستمر على حجم حبيبات النحاس في النماذج المرسبة

Authors: Khalid A. Yahya خالد عباس يحيى --- Ban F. Rasheed بان فيصل رشيد
Journal: Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم ISSN: 20788665 24117986 Year: 2019 Volume: 16 Issue: 1 Pages: 84-87
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

A study of the effects of the discharge (sputtering) currents (60-75 mA) and the thickness of copper target (0.037, 0.055 and 0.085 mm) on the prepared samples was performed. These samples were deposited with pure copper on a glass substrate using dc magnetron sputtering with a magnetic flux density of 150 gauss at the center. The effects of these two parameters were studied on the height, diameter, and size of the deposition copper grains as well as the roughness of surface samples using atomic force microscopy (AFM).The results of this study showed that it is possible to control the specifications of copper grains by changing the discharge currents and the thickness of the target material. The increase in discharge current values led to a decrease in height copper grain's values of 20% at a current of 75 mA and target thickness of 0.085 mm. Furthermore, the increasing in the current caused a decrease in the diameter and size values of deposition copper grains. Finally, the surface roughness of the samples was reduced by a 15% by changing the current and target material thickness at 75 mA and 0.085mm respectively.

ان تأثير تيار التفريغ (الترذيذ) (60-75 ) ملي امبير وسمك النحاس الهدف (0.037, 0.055, 0.085) ملم على النماذج الزجاجية المحضرة والمرسب عليها النحاس النقي بواسطة منظومة الترذيذ بالماكنترون المستمر قد تمت دراستها في هذا البحث. درس تأثير هذين العاملين على ارتفاع وقطر وحجم حبيبات النحاس المرسبة وكذلك تمت دراسة الخشونة لسطح النماذج المحضرة بأستخدام مجهر القوة الذرية (AFM). تبين من النتائج انه بالامكان السيطرة على خصائص حبيبات النحاس المرسية عن طريق تغيير تيار التفريغ وسمك مادة النحاس الهدف. ان زيادة تيار التفريغ ادى الى تقليل ارتفاع حبيبات النحاس بنسبة 20% عند تيار 75 ملي امبير وسمك هدف 0.085 ملم.اضافة الى ذلك ان زيادة تيار التفريغ ادى الى تقليل قطر وحجم الحبيبات, وكذلك فان خشونة السطح قلت بنسبة 15% بتغيير التيار الى 75 ملي امبير عند سمك هدف 0.085 ملم.


Article
Simulation Study of Sputtering Yield of Zn Target Bombarded By Xenon Ions
محاكاة لدراسة حاصل ترذيذ هدف من الزنك المقصوف بأيونات الزينون

Loading...
Loading...
Abstract

Using a reduction of TRIM simulation data, the sputtering yield behaviour of Zinc targetbombard by heavy Xenon ions plasma is studied. The sputtering yield as a function of Zinclayer width, Xenon ion number, energy of ions, and the angle of ion incidence are calculatedand illustrated graphically. The corresponding energy loss due to ionization, vacancies andphonons, are graphically shown and discussed. Further, we fit the calculations andexpressions for fitted curves are presented with its coefficients.

تم دراسة سلوك حاصل الترذيذ لهدف من الزنك المقصوف ،TRIM باستخدام بيانات محاكاة برنامج الترمولعدد ،Zn الثقيلة. تمت اجراء حسابات حاصل الترذيذ كدالة لعرض طبقة من الزنك Xe بوساطة ايونات بلازما الزينونايونات الزينون ، وطاقتها ، وزاوية السقوط أيونات على الهدف وتم مناقشتها ورسمها. كذلك تم مناقشة ورسم خسائر الطاقةالمترافقة مع الترذيذ بسبب التأين ، والشواغر والفونونات. وعلاوة على ذلك ، تم ملائمة الحسابات والتعبير عن منحنياتالحسابات بمعادلات ملائمة و وضعت معاملاتها.


Article
Theoretical Calculations For Sputtering Yield of Beryllium Surface Bombard By Deuterium Plasma Ions
حسابات نظرية لحاصل ترذيذ سطح البريليوم بواسطة حزمة ايونات بلازما الديوتيريوم

Author: Enas .A . Jawad
Journal: Journal of College of Education مجلة كلية التربية ISSN: 18120380 Year: 2016 Issue: 1 Pages: 1-12
Publisher: Al-Mustansyriah University الجامعة المستنصرية

Loading...
Loading...
Abstract

Extended calculations for sputtering yield through bombed Beryllium – target by Deuterium ions plasma are accomplished .Accounts include changing the input parameters: the energy of Deuterium ions plasma, the hit target angle of Beryllium target, thickness of the Beryllium target layer, The program TRIM is used to accomplish these calculations. Results show that sputtering yield is directly dependent on these parameters. It can change the incident angle of Deuterium ions and energy lead to a significant change in Sputtering yield . On the other hand, the sputtering yields are highly affected by changing target width at fixed ion parameters.

لقد أنجزت حسابات موسعة لعملية الترذيذ لهدف من البريليوم بواسطة قصفة بلازما ايونات الديوتيريوم . اشتملت الحسابات على تغيير معلمات الإدخال لكل من طاقة ايونات بلازما الهيدروجين وزاوية سقوطها على هدف من البريليوم وسمك طبقة الهدف وتأثيرها على حاصل الترذيذ . لقد تم توظيف برنامج TRIMلانجاز الحسابات. تبيين النتائج إن حاصل الترذيذ يعتمد اعتماد مباشر على هذه المعلمات إذ أن تغيير زاوية سقوط ايونات البلازما وطاقتها تؤدي إلى تغير محسوس في نتائج حاصل الترذيذ . اما تغير سمك الهدف فله تأثير مباشر في حاصل الترذيذ عند ثبوت معلمات الايونات.


Article
Preparation of Al2O3 thin films by magnetron sputtering system and study their optical and structural properties
تحضير اغشية Al2O3الرقيقة باستخدام منظومة ترذيذ ما كنتروني محلية الصنع ودراسة خصائصها

Authors: Basim A. Zije باسم عجيل زجي --- Abdulhussain A. Khadyair عبد الحسين عباس خضير
Journal: Journal of Kufa - physics مجلة الكوفة للفيزياء ISSN: 20775830 Year: 2018 Volume: 10 Issue: 1 Pages: 20-28
Publisher: University of Kufa جامعة الكوفة

Loading...
Loading...
Abstract

In this research we prepared (Al2O3) films on substrate of glass by using plasma magnetron sputtering technique. We studied the structural and optical properties for the prepared films with different thicknesses. The results of XRD showed that the thin films had a polycrystalline structure with Rhombohedra (Trigonal)lattice unit cell. Surface morphology and the roughness of the prepared films were diagnostic by atomic force microscope (AFM). Where the results showed that the roughness increased from (11-24.4)nm with increasing thickness from(60-308)nm. optical properties of the prepared films with in(300-1100)nm showed that the absorption of the films decreased with increases of wavelength for all thicknesses, and transmittance of the films increased with increases of wavelength for all thicknesses. The results of optical measurement showed that the optical energy gap for the prepared films increased from (3.65-3.95)eV with increases thickness from (60-308)nm. http://dx.doi.org/10.31257/2018/JKP/100103

في هذا البحث تم تحضير أغشية Al2O3) ) على أرضيات من الزجاج, باستخدام طريقة الترذيذ الما كنتروني البلازمي. تم دارسة الخصائص التركيبية والبصرية للأغشية المحضرة ولأسماك مختلفة ،نتائج حيود الاشعة السينية (XRD) أظهرت أن الاغشية المحضرة ذات تركيب متعددة التبلور مع تركيب لشبائك خلية الوحدة ذات تركيب (Trigonal). مورفولوجيا وخشونة السطح تم تشخيصها باستخدام جهاز مجهر القوى الذرية(AFM), حيث ان النتائج اظهرت ان الخشونة ازدادت من (11-24.4)nm مع زيادة السمك من (60-308)nm. الخصائص البصرية للأغشية المحضرة ضمن المدى من nm(300-1100) أظهرت بأن امتصاصيه الأغشية تقل بزيادة الطول الموجي ولكل الاسماك المحضرة. ونفاذية الأغشية ازدادت بزيادة الطول الموجي لكل الأسماك المحضرة . نتائج القياسات البصرية أظهرت أن فجوة الطاقة البصرية للأغشية المحضرة تزداد من (3.65-3.95)eV عند زيادة السمك من nm(60-308).


Article
Anticorrosion Behavior of Deposited Magnetite on Galvanized Steel in Saline Water Using RF-Magnetron Sputtering
السلوك المضاد للتآكل من ترسيب المغنتايت على الحديد المغلون في المياه المالحه بأستخدام الموجات الراديويه-الترذيذ الماكتروني الفعال

Authors: Nafeesa J. Kadhim نفيسه جبار كاظم --- Ahlam M. Farhan احلام محمد فرحان --- Harith I. Jaafer حارث ابراهيم جعفر
Journal: Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم ISSN: 20788665 24117986 Year: 2018 Volume: 15 Issue: 4 Pages: 406-414
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

Thin films of Magnetite have been deposited on Galvanized Steel (G-S) alloy using RF-reactive magnetron sputtering technique and protection efficiency of the corrosion of G-S. A Three-Electrodes Cell was used in saline water (3.5 % NaCl) solution at different temperatures (298, 308, 318 & 328K) using potentiostatic techniques with. Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) and fitting impedance data via Frequency Response Analysis (FRA) were applied to G-S alloy with Fe3O4 and tested in 3.5 % NaCl solution at 298K.Results taken from Nyquist and Bode plots were analyzed using software provided with the instrument. The results obtained show that the rate of corrosion of G.S alloy increased with increasing the temperatures from 298 to 323K; and showed that deposition of Fe3O4 caused protection efficiency to reach 79.76% for G-S in 318K. In addition the enthalpy & entropy of activation were evaluated. Apparent energies of activation have been calculated for the corrosion process of uncoated and coated G.S alloy by sputtering technique in saline water (3.5 % NaCl). The morphological analysis was carried out using Scanning Electron Microscopy (SEM) technique.

تم في هذا البحث ترسيب غشاء رقيق من المغنتايت على سبيكة الحديد المغلون بأستخدام الموجات الراديويه – تقنية الترذيذ الماكتروني الفعال كطلاء حمايه,و درست كفاءة حماية التآكل للحديد المغلون في المياه المالحه (3.5% كلوريد الصوديوم)بأستخدام جهاز مقياس الجهد الساكن مع ثلاثة اقطاب, وبأستعمال جهاز قياس الممانعه الكهروكيميائيه الطيفي تم تحليل النتائج. أظهرت النتائج أن معدل سرعة التآكل للحديد المغلون بدون طلاء زاد بزيادة درجة الحراره (298-328) كلفن, و اظهرت النتائج أن ترسيب المغنتايت الناجم عن كفاءة حمايه بلغ 79.76% في درجة حراره 318 كلفن ,تم حساب قيم التغير في الانثالبي وطاقة التنشيط,حيث قدرت قيم الطاقات الظاهريه من التنشيط لعملية التآكل لسبيكة الحديد المغلون المطليه وغير المطليه في المياه المالحه (3.5% كلوريد الصوديوم), تم أجراء التحليل المورفولوجي بأستخدام تقنية المجهر الضوئي الالكتروني.


Article
A Comparative Study on the Electrical Characteristics of Generating Plasma by Using Different Target Sources
دراسة مقارنه للخصائص الكهربائية للبلازما المتولدة من أهداف مختلفة

Authors: Sarah K. Taha سارة خضير طه --- Sabah N. Mazhir صباح نوري مزهر --- Mohammed K. Khalaf محمد خماس خلف
Journal: Baghdad Science Journal مجلة بغداد للعلوم ISSN: 20788665 24117986 Year: 2018 Volume: 15 Issue: 4 Pages: 436-440
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

In this research, the electrical characteristics of glow discharge plasma were studied. Glow discharge plasma generated in a home-made DC magnetron sputtering system, and a DC-power supply of high voltage as input to the discharge electrodes were both utilized. The distance between two electrodes is 4cm. The gas used to produce plasma is argon gas which flows inside the chamber at a rate of 40 sccm. The influence of work function for different target materials (gold, copper, and silver), - 5cm in diameter and around 1mm thickness - different working pressures, and different applied voltages on electrical characteristics (discharge current, discharge potential, and Paschen’s curve) were studied. The results showed that the discharge current and potential increase by increasing the applied voltage ranging between 300-700 V. Discharge current increased as working pressure increased in the beginning, and then semi-stabilized (slight increase) starting from 1×100 mbar, while discharge potential decreased at the beginning as working pressure increased and then semi-stabilized at the same point at which discharge current stabilized. The Paschen’s curves were compared with each other. It was concluded that the lower breakdown voltage was associated with lower work function of the (Au, Cu, and Ag) cathode material. Breakdown voltages were (395, 398, and 420) for Ag, Cu and Au respectively.

تم في هذا البحث دراسة الخصائص الكهربائية لبلازما التفريغ التوهجي باستخدام منظومة الترذيذ الماكنتروني ذات التيار المستمر المحلية الصنع لتوليد بلازما التفريغ. كذلك أستخدم غاز الاركون لانتاج البلازما بمعدل تدفقSccm 40 وبمسافة فاصلة بين الاقطاب بمقدار cm4 وباستخدام مجهز قدرة عالي الفولتية. تم دراسة تأثير كل من دالة الشغل لاهداف مختلفة (ذهب، فضة ، نحاس) - بقطر 5 سم وسمك 1 ملم- على الفولتية المسلطة وضغط التشغيل على الخصائص الكهربائية (تيار التفريغ، جهد الكاثود ومنحنى باشن). أظهرت النتائج ان كلا من تيار التفريغ وجهد الكاثود يزداد بزيادة الفولتية المسلطة والذي يتراوح بين 300-700. ان تيار التفريغ يزداد مع زيادة الضغط المسلط في البداية ثم يستقر نسبياَ عند ضغط (زيادة ضئيلة ) ابتدأ من mbar1. بينما يقل جهد الكاثود مع زيادة الضغط المسلط ثم يستقر في نفس النقطة التي استقر فيها تيار التفريغ.لقد قورنت منحنيات باشن مع بعضها بالاعتماد على نوع مادة الهدف. وتم الاستنتاج ان جهد الانهيار يرتبط بدالة الشغل لكل من الذهب والفضة والنحاس.


Article
Electrical Discharge Characterization of Planar Sputtering System for Gold Target
توصيف التفريغ الكهربائي لمنظومة الترذيذ باستخدام هدف من الذهب

Loading...
Loading...
Abstract

Before using any sputtering system, the extent of the operating pressures and voltages must be known by studying the breakdown curve with the product of the working pressure times the inter electrode distance. In this paper, argon breakdown by dc electrical potentials was experimentally studied. Paschen curves for argon gas were obtained by measuring the breakdown voltage of argon using gold target. These curves display that the breakdown voltage in Ar gas between two planer electrodes comparable with (P. d). The I-V characteristics of the plasma discharge point to that the discharge is working in the abnormal glow region.

قبل استخدام أي منظومة ترذيذ يجب معرفة مدى الضغوط والفولتية التي تعمل فيها من خلال دراسة منحنى فولتية الانهيار مع حاصل ضرب الضغط في المسافة بين القطبين.تم في هذا البحث عمل دراسة عملية لجهد الانهيار في غاز الأركون باستخدام مجال كهربائي مستمر. تم الحصول على منحنيات باشن لغاز الأركون عن طريق قياس جهد انهيار الغاز باستخدام هدف من الذهب. بينت هذه المنحنيات أن جهد الانهيار لغاز الأركون ان التفريغ الكهربائي بين القطبين المستويين يكون كدالة لـ (P.d)(حاصل ضرب الضغط داخل الحجرة في المسافة بين الاقطاب). بينت خصائص التيار -فولتية أن التفريغ يعمل في منطقة التوهج فوق الطبيعي


Article
Effect of Sputtering pressure and partial pressure on Structural Properties of TiO2thin Films
تاثير ضغط الترذيذ والضغط الجزيئي على الخصائص التركيبية لأغشية ثنائي اوكسيد التيتانيوم المحضرة باستخدام الترذيذ بالتيار المستمر

Authors: Mahdya A.Yeser مهدية احمد يسر --- Raaed S.Atea رائد ستار عطية
Journal: Journal of Kufa - physics مجلة الكوفة للفيزياء ISSN: 20775830 Year: 2013 Volume: 5 Issue: 2 Pages: 15-20
Publisher: University of Kufa جامعة الكوفة

Loading...
Loading...
Abstract

Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 films prepared using DC-sputtering to glass substrate was investigated. sputtering pressures are changed (1.8,2.8,3.8,4.3 pa) at constant O2 /Ar Ratio(5%). Measurements reveal that the TiO2 films at the sputtering pressure 1.8 pa is amorphous , while at increasing pressure to 2.8 pa becomes crystalline with Rutile phase (110) and when we increase the pressure to 4.3 pa get crystalline structure with anatas phase ( 101) .Grain size is calculated per crystalline structure of the anatas and rutile (15.7) nm and(14.2) nm respectively. For constant sputtering pressure (2.8pa) and changedO2/Ar Ratio(10% ,15% ,20% ,25% ,30% , 35%),TiO2 thin films are a amorphous, except percentage (25%) is crystalline with anatas phase (101) and with grain size (15.7 nm).

تم في هذا البحث دراسة تاثير كل من ضغط الترذيذ والضغط الجزيئي على الخصائص التركيبة لاغشية ثنائياوكسيد االتيتانيوم المحضرة باستخدام منظومة الترذيذ بالتيار المستمر على ارضيات زجاجية . الخطوة الاولىفي البحث تم تثبيت الضغط بتثبيت الضغط الجزيئي للاوكسجين عند النسبة 5%) ( وتغير ضغط غاز الترذيذ( 1.8,2.8,3.8,4.3pa ( وثانيا تم تثبيت ضغط الترذيذ عند الضغط ) 2.8 pa ( وتغير الضغط الجزيئيللاوكسجين (10%,15%,20%,25%,30%,35% ) . من قياسات حيود الاشعة السينية تبين ان الاشعة عندالضغط ) 1.8 pa ( عشوائية التركيب ولكن عند الضغط ) 2.8 pa ( تصبح بلورية التركيب وبطور الروتيلوبزيادة الضغط اكثر تصبح الاغشية وبالتحديد الضغط ) 4.3 pa ( بلورية التركيب وبطور الاناتاس وبتوجيهية( 101 ) , بينما عند تثبيت النسبة وزيادة الضغط سوف نحصل على تركيب بلوري وبطور الاناتاس وبتوجيهة( 101 ( عند النسبة .25%قمنا بحساب الحجم الحبيبي للاغشية المحضرة كدالة لكل من ضغط الترذيذ مرة والضغط الجزيئي مرة اخرى


Article
The Sputtering Field Calculation For Assumption plasma System By Fluid Dynamic Model
حساب منتوج الترذيذ لمنظومة بلازما افتراضية باستعمال أنموذج ديناميكية المائع

Loading...
Loading...
Abstract

The present study was undertaken to calculate sputtering yield by designing theoretical system which included crystalline silicon as a target material(3 cm radius) and Argon as bomber ion, which be present 4 cm distance from the substrate.For this purpose, many programs were design in Visual basic, where the program was planned to compute the electronic stopping power , the nuclear stopping power and sputtering yield as a function of energy of bombing ion . The results of present theoretical study were revealed compatible with those practical published results as well as the program was run out for other bomber ions like Neon, Helium, Krypton, and Xenon. Each ion pointed out different sputtering yield which ejective increasing depending on the mass of bomber ion.

إن الهدف من الدراسة الحالية هو حساب منتوج الترذيذ وذلك بواسطة تصميم منظومة افتراضية تضمنت السليكونالبلوري كمادة هدف)نصف قطرها 3سم (، والآركون كأيونات قاصفة وضعت المادة الهدف على بعد 4 سم من أرضيةلحساب قدرة الإيقاف الإلكترونية و قدرة الإيقاف النووية و منتوج الترذيذ Visual basic الترسيب .أعدت برامج بلغةكدالة لطاقة الايون القاصف .تشير نتائج الدراسة النظرية الحالية إلى توافق مع العديد من الدراسات العملية المنشورة، وقدنفذت هذه البرامج على أيونات قاصفة أخرى مثل النيون، الهليوم، الكربتون، والزنون إذ أظهرت منحنيات منتوج الترذيذنتائج مختلفة لكل أيون اعتماداً على كتلة الايون القاصف الذي يزداد منتوج الترذيذ بزيادتها

Listing 1 - 10 of 18 << page
of 2
>>
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (18)


Language

English (14)

Arabic (2)

Arabic and English (2)


Year
From To Submit

2019 (5)

2018 (5)

2016 (3)

2015 (2)

2014 (1)

More...