research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
Investigation of Gold Nanostructures on Silicon Using Electrochemical Deposition Method

Authors: Sadek Hani Lafta --- Abdul-Qader Dawood Faisal
Journal: Al-Nahrain Journal of Science مجلة النهرين للعلوم ISSN: (print)26635453,(online)26635461 Year: 2013 Volume: 16 Issue: 4 Pages: 134-140
Publisher: Al-Nahrain University جامعة النهرين

Loading...
Loading...
Abstract

Nanostructures of gold electrodeposited on silicon (100) substrate with two electrode homemade cell were investigated. In this paper we report our experimental results of gold-electroplating using a sulfite-based electrolyte instead of toxic gold-cyanide. The used electrolyte was safe and friendly environmental. Film thickness as a function of current density and deposition rate were calculated using gravity method. An empirical formula was satisfied the expected deposition thicknesses. Deposition rate of ≈ 5-40nm/ min was achieved. Au (111) structure for gold nanofilm was characterized by XRD. Morphology of gold film deposited was investigated with AFM. Morphology of Au thin films on silicon shows nanosize particles after annealing process at 600°C.

تم دراسة التراكيب النانوية للذهب المرسب بالطريقة الكهربائية على قاعدة السليكون (100) باستعمال خلية مصنعة محليا. ان النتائج العملية لهذا البحث المتعلق بترسيب الذهب أستعملت محلول يستند على الكبريتات بدلا من سيانيد الذهب السام، اي ان المحلول المستعمل امن بيئيا. تم حساب سمك الغشاء كدالة لكثافة التيار ومعدل الترسيب باستعمال الطريقة الوزنية. حققت العلاقة المستنبطة سمك الغشاء المتوقع ترسيبه. تم الوصول الى معدل ترسيب بحدود 40 -5نانومتر بالدقيقة. شخصت البنية البلورية لغشاء الذهب النانوي بواسطة حيود الاشعة السينية (XRD). تم فحص شكل غشاء الذهب المترسب بواسطة مجهر القوى الذرية (AFM). تبين ان شكل الغشاء الرقيق للذهب على السليكون ذو جسيمات بابعاد نانوية وذلك بعد اجراء عملية التلدين عند درجة حرارة600 درجة مئوية.

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2013 (1)