research centers


Search results: Found 40

Listing 1 - 10 of 40 << page
of 4
>>
Sort by

Article
Investigation of plasma characteristics of center region of postcylindrical magnetron sputtering device
دراسة خصائص البلازما في منطقة المركز لمنظومة الترذيذ الماكنترون ذات الأبعاد الأسطوانية

Authors: Qusay A. Abbas قصي عدنان عباس --- Rahman R .Abdula رحمن رستم عبدالله --- Baha T. Chied بهاء طعمة جياد
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2010 Volume: 8 Issue: 11 Pages: 33-40
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

A d.c. magnetron sputtering system was designed and fabricated. The chamber of this system is consisted from two copper coaxial cylinders. The inner one used as the cathode and the outer one used as anode with magnetic coil located on the outer cylinder (anode). The axial behavior of the magnetic field strength along the cathode surface for various coil current (from 2A to 14A) are shown. The results of this work are investigated by three cylindrical Langmuir probes that have different diameters that are 2.2mm, 1mm, and 0.45mm. The results of these probes show that, there are two Maxwellian electron groups appear in the central region. As well as, the density of electron and ion decreases with increases of magnetic field strengths.

في هذا العمل تم تصميم و تكوين منظومة الترذيذ الماكنترون. ان حجرة هذا المنظومة تتكون من اسطوانتين نحاسيتين ذات محور مشترك. حيث استخدمت الاسطوانة الداخلية كقطب سالب اما الاسطوانة الخارجية استخدمت كقطب موجب حيث يكون الملف المغناطيسي موضوع على السطح الخارجي للاسطوانة الخارجية (الانود). تم دراسة توزيع المجال المغناطيسي المتولد في الملف لتيارات مختلفة تتراوح بين (2 إلى 12 أمبير). ان نتائج هذا العمل قد فحصت باستخدام ثلاثة مجاميع من مجسات الانجمور الأسطوانية مختلفة الأقطار وهي 1 ملي متر,ملي متر 0.45,ملي متر . 2.2أن نتائج هذه المجسات قد بينت بان هناك مجموعتين من الإلكترونات مختلفة الطاقة تخضع لتوزيع ماكسويل تظهر في منطقة المركز. بالإضافة إلى ذلك فقد لوحظ بان كثافة الإلكترون و الأيون تقل مع زيادة قوة المجال المغناطيسي


Article
The effect of anode temperature on the Optical characteristic of Se films prepared by direct current planar magnetron sputtering
تاثير درجة حرارية الانود على الخصائص البصرية للا غشية السيلنيوم المحضرة بطريقة الترذيذ المغناطيس المستمر

Authors: Kadhim A.A.Al-Hamdani كاظم عبدالواحد عادم --- R.M.S.Al-Haddad رعد محمد صالح --- Ali A-K.Hussain علي عبدالكريم
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2010 Volume: 8 Issue: 13 Pages: 28-32
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

This work describes, selenium (Se) films were deposited on clean glass substrates by dc planar magnetron sputtering technique.The dependence of sputtering deposition rate of Se film deposited on pressure and DC power has been studied. The optimum argon pressure has range (4x10-1 -8x10-2 )mbar. The optical properties such as absorption coefficient (α) was determined using the absorbance and transmission measurement from UnicoUV-2102 PC spectrophotometer, at normal incidence of light in the wavelength range of 200-850 nm. And also we calculated optical constants(refractive index (n), dielectric constant (εi,r), and Extinction coefficient (κ) for selenium films.

في هذا العمل تم تحضير اغشية السيلينيوم بتقنية الترذيذ المغناطيس المستمر على قواعد نظيفة من الزجاج واعتماد معدل ترسيب اغشية السيلينيوم على الضغط والقدرة المسلطة حيث كان الضغط المناسب لتوليد البلازما من اجل ترسيب الاغشية ضمن المدى)mbar 4x10-1 -8x10-2 ).كما تم حساب الخصائص البصرية مثل معامل الامتصاص الذي حسب من خلال قياسات الامتصاصية والنفاذية باستخدام جهاز UnicoUV-2102 PC spectrophotometerضمن مدى الاطوال الموجية من 200-850 nm)) وكذلك تم حساب الثوابت البصرية للاغشية السيلينيوم(معامل الانكسار (n) ,ثابت العزل الحقيقي والخيالي εi,r ومعامل الخمود (k)).


Article
Nanostructured Copper Oxide Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering

Author: Mohammed A.K. Ahmed
Journal: Iraqi Journal of Applied Physics المجلة العراقية للفيزياء التطبيقية ISSN: 18132065 23091673 Year: 2017 Volume: 13 Issue: 2 Pages: 11-14
Publisher: iraqi society for alternative and renewable energy sources and techniques الجمعية العراقية لمصادر وتقنيات الطاقة البديلة والمستجدة

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, nanostructured copper oxide thin films were prepared by a dc reactive magnetron sputtering system. The structural and optical characterizations carried out on the prepared samples showed that the deposited CuO films were crystalline with a monoclinic crystal structure. The UV-visible spectra showed wide and high absorption spectral ranges that promote this material as an absorbing material for solar energy. Subsequently, the FTIR data showed the molecular structure of CuO with good agreement to the reference data.


Article
Current–voltage and capacitance-voltage characteristics of Se/Si heterojunction prepared by DC planar magnetron sputtering technique
خصائص التيار- فولتية والفولتية – السعة للمفرق الهجيني Se/Siالمحضربتقنية الترذيذ المغناطيسي المستمر

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, the effect of annealing temperature on the electrical properties are studied of p-Se/ n-Si solar cell, which p-Se are deposit by DC planar magnetron sputtering technique on crystal silicon. The chamber was pumped down to 2×10&#8722;5 mbar before admitting the gas in. The gas was Ar. The sputtering pressure varied within the range of 4x10-1 - 8x10-2mbar by adjusting the pumping speed through the opening control of throttle valve. The electrical properties are included the C-V and I-V measurements. From C-V measurements, the Vbi are calculated while from I-V measurements, the efficiency of solar cell is calculated.

في هذا العمل تم دراسة تاثير درجة حرارة التلدين على الخصائص الكهربائية لخلية الشمسية p-Se/n-Si حيث رسب سيلينيوم بتقنية ترذيذ المغناطيسي المستمر على قواعد من السليكون حيث وصل تفريغ منظومة التفريغ الى ضغط بحدود 2x10-5mbar قبل ضخ غاز الاركون وبعد وصل الضغط الى mbar(4x10-1 – 8x10-2) من خلال صمام لتحكم بدخول غاز الاركون وبعد ذلك تتولد لدينا بلازما.الخصائص الكهربائية التي تتضمن C-V و I-V تم قياسها ومن قياسات السعةو الفولتية تم حساب Vbi وكذلك تم حساب كفاءة الخلية الشمسية.


Article
The axial profile of plasma characteristics of cylindrical magnetron sputtering device
توزيع الطولي لخصائص البلازما لمنظومة الترذيذ الماكنترون ذات الأبعاد الأسطوانية

Authors: Baha T. Chied بهاء طعمة جياد --- Rahman R. Abdula رحمن رستم عبدالله --- Qusay A. Abbas قصي عدنان عباس
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2010 Volume: 8 Issue: 11 Pages: 41-47
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

In the present work, a d.c. magnetron sputtering system was designed and fabricated. The chamber of this system was includes from two copper coaxial cylinders where the inner one used as a cathode (target) while the outer one used as the anode with Solenoid magnetic coil located on the outer cylinder (anode). The axial profile of magnetic field for various coil current (from 2A to 14 A) are shown. The plasma characteristics in the normal glow discharge region are diagnostics by the 2.2mm diameter Langmuir probe with different length along the cathode and located at different radial positions 1cm and 2cm from the cathode surface. The result of this work shows that, the electron energy distributions at different radial positions along the cathode surface are non-uniform. Therefore, the plasma characteristics at these radial positions along the cathode surface are non-uniform. So that, the ion bombardment along the cathode are non-uniform in this glow discharge region.

في هذا العمل تم تصميم وتكوين منظومة الترذيذ المستمر. ان حجرة هذه المنظومة تتكون من اسطوانتين نحاسيتين ذات محور مشترك حيث تكون تستخدم الاسطوانة الداخلية كقطب كاثود (هدف) أما الخارجية فتستخدم كقطب موجب حيث تم وضع ماف مغناطيسي على السطح الخارجي الاسطوانة الخارجية ( الانود). ان توزيع الطولي للمجال المغناطيسي المتولد من الملف المغناطيسي لمختلف التيارات من 2 أمبير إلى 14 أمبير قد بينت. ان خصائص البلازما المتولدة في منطقة التوهج الاعتيادي قد تم تشخيصها باستخدام مختلف الأطوال من مجس لانجمور وعلى أبعاد مختلفة من سطح الكاثود وهي 1 سنتيمتر و 2 سنتيمتر. ان نتائج هذا البحث قد بينت بان توزيع طاقة الإلكترون على طول الكاثود لمختلف المواقع الشعاعية غير منتظمة. لذلك فان توزيع خصائص البلازما على طول الكاثود لمختلف المواقع الشعاعية غير منتظمة. لذا فان القصف الأيوني في منطقة التوهج هذه غير منتظم أيضا.


Article
Double probe for measuring the plasma parameters
قياس متغيرات البلازما بأستخدام المجس الثنائي

Loading...
Loading...
Abstract

In this work the diode planer magnetron sputtering device was designed and fabricated. This device consists of two aluminum discs (8cm) diameter and (5mm) thick. The distance between the two electrodes is 2cm, 3cm, 4cm and 5cm. Design and construction a double probe of tungsten wire with (0.1mm) diameter and (1.2mm) length has been done to investigate electron temperature, electron and ion density under different distances between cathode and anode. The probes were situated in the center of plasma between anode and cathode. The results of this work show that, when the distance between cathode and anode increased, the electron temperature decreased. Also, the electron density increases with the increasing of the distance between the two electrodes. The behavior of ion density is similar to that of electrons but the value is higher.

في هذا العمل تم تصميم وتصنيع منظومة الترذيذ المغناطيسي المستمر المستوية. تحتوي هذه المنظومة على قطبين من الألمنيوم بقطر (8سم) وبسمك (5ملم) والمسافة التي تفصل بينهما هي 2سم, 3سم, 4سم و5سم. بالإضافة إلى ذلك تم تصميم وتصنيع مجس ثنائي بقطر (0.1ملم) وطول (1.2ملم) مصنوع من مادة التنكستن لتشخيص درجة حرارة الإلكترون وكثافة الإلكترونات وكثافة الايونات بمسافات مختلفة بين الكاثود والآنود. تم دراسة تأثير المسافة بين الأقطاب على خواص البلازما وبينت النتائج في هذه الدراسة أنه عند زيادة المسافة بين الكاثود والآنود فأن درجة حرارة الإلكترون تقل وكذلك فأن كثافة الالكترونات تزداد بزيادة المسافة بين الأقطاب وان سلوك كثافة الايونات نفس سلوك الالكترونات ولكن بقيمة أعلى.


Article
Structural Properties of Semiconducting Nanostructures Prepared by DC Plasma Reactive Sputtering Method

Author: Noor I. Naji
Journal: Iraqi Journal of Applied Physics المجلة العراقية للفيزياء التطبيقية ISSN: 18132065 23091673 Year: 2014 Volume: 10 Issue: 3 Pages: 41-44
Publisher: iraqi society for alternative and renewable energy sources and techniques الجمعية العراقية لمصادر وتقنيات الطاقة البديلة والمستجدة

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, semiconducting nickel oxide (NiO) nanostructures were prepared by reactive dc plasma sputtering method. Magnetron was employed at the cathode to prepare these nanostructures and show the advantage of such device in the production of highly pure nanostructures. The sputtered nickel atoms were sputtered and oxidized in presence of oxygen in the Ar:O2 gas mixture of 4:1 ratio. Employment of magnetron results in formation of NiO only in the final samples according to the XRD analysis, increase the roughness and hence surface area of the produced NiO nanostructures, and finally decrease the particle size of NiO nanoparticles lower than 100nm. These improvements in the structural properties of the produced NiO make these nanostructures good candidates for specific applications, such as photodetectors, solar cells and electrochromic smart windows.


Article
Microhardness of Nanostructured SixN1-x Thin Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering

Authors: Ahmed A. Anber --- Firas Kadhim
Journal: Iraqi Journal of Applied Physics المجلة العراقية للفيزياء التطبيقية ISSN: 18132065 23091673 Year: 2016 Volume: 12 Issue: 2 Pages: 15-19
Publisher: iraqi society for alternative and renewable energy sources and techniques الجمعية العراقية لمصادر وتقنيات الطاقة البديلة والمستجدة

Loading...
Loading...
Abstract

Nanostructured silicon nitride (SixN1-x) thin films were prepared by reactive magnetron sputtering using Ar/N2 gas mixture of 1:1. The structures and fractional compositions of the prepared samples were determined by x-ray diffraction (XRD) and electron-dispersion x-ray diffraction (EDS) patterns as functions of inter-electrode distance. They showed that the prepared films were polycrystalline and the partial amount of silicon (x) is ranging in 0.825-0.865 as the inter-electrode distance was ranging in 2.5-7.5cm. The particle sizes of the prepared nanostructured were determined by the field-effect scanning electron microscopy (FE-SEM) to be about 38nm. Also, the highest value of the surface roughness of the prepared nanostructures was determined by the atomic force microscopy (AFM) and found to increase with increasing inter-electrode distance to be 29.00nm for the samples prepared at 7.5cm. The measured Vickers microhardness of the prepared films showed relatively high values (570-750) and was decreased with decreasing film thickness, which is inversely proportional to the inter-electrode distance. However, no uniform relation between the microhardness and fractional composition of the prepared sample was observed.


Article
Current-Voltage Characteristics of DC Plasma Discharges Employed in Sputtering Techniques
خصائص تيار-جهد لتفريغ البلازما المستمر المستخدم في تقنيات الترذيذ

Authors: Mohammed K. Khalaf --- Oday A. Hammadi --- Firas J. Kadhim
Journal: Iraqi Journal of Applied Physics المجلة العراقية للفيزياء التطبيقية ISSN: 18132065 23091673 Year: 2016 Volume: 12 Issue: 3 Pages: 11-16
Publisher: iraqi society for alternative and renewable energy sources and techniques الجمعية العراقية لمصادر وتقنيات الطاقة البديلة والمستجدة

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, the current-voltage characteristics of dc plasma discharges were studied. The current-voltage characteristics of argon gas discharge at different inter-electrode distances and working pressure of 0.7mbar without magnetrons were introduced. Then the variation of discharge current with inter-electrode distance at certain discharge voltages without using magnetron was determined. The current-voltage characteristics of discharge plasma at inter-electrode distance of 4cm without magnetron, with only one magnetron and with dual magnetrons were also determined. The variation of discharge current with inter-electrode distance at certain discharge voltage (400V) for the cases without magnetron, using one magnetron and dual magnetrons were studied. Finally, the discharge current-voltage characteristics for different argon/nitrogen mixtures at total gas pressure of 0.7mbar and inter-electrode distance of 4cm were presented.


Article
Preparation of Highly Pure Nanostructures by Reactive DC Magnetron Sputtering Technique
تحضير تراكيب نانوية عالية النقاوة باستخدام تقنية الترذيذ التفاعلي المستمر

Authors: Firas J. Kadhim --- Oday A. Hammadi --- Mohammed K. Khalaf --- Bahaa T. Chiad
Journal: Iraqi Journal of Applied Physics المجلة العراقية للفيزياء التطبيقية ISSN: 18132065 23091673 Year: 2016 Volume: 12 Issue: 3 Pages: 27-34
Publisher: iraqi society for alternative and renewable energy sources and techniques الجمعية العراقية لمصادر وتقنيات الطاقة البديلة والمستجدة

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, metal oxide and nitride nanostructures were prepared by reactive dc magnetron sputtering technique. These nanostructures were synthesized from metal oxide such as NiO and nitride such as Si3N4 for functional materials applications. The prepared nanostructures were diagnosed by x-ray diffraction (XRD) patterns and Fourier-transform infrared (FTIR) spectroscopy. The results showed that the prepared nanostructures are highly pure, which is ascribed to the featured characteristics of magnetron sputtering technique for such purposes.

Listing 1 - 10 of 40 << page
of 4
>>
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (40)


Language

English (37)

Arabic (2)


Year
From To Submit

2019 (5)

2018 (5)

2017 (5)

2016 (11)

2015 (3)

More...