research centers


Search results: Found 13

Listing 1 - 10 of 13 << page
of 2
>>
Sort by

Article
Experimental and Kinetic Study of Phenol Oxidation Using Ni-oxide Catalysts
دراسة عملية ونظرية لعملية تحول الفينول بطريقة الأكسدة بوجود أكسيد النيكل كعامل مساعد

Loading...
Loading...
Abstract

The current study focuses on the investigation of Nickel Oxide in advanced oxidation process of phenol. The removal of phenol from aqueous phase continues to be an important environmental issue. In this work, the oxidation of phenol in aqueous solutions in a batch reactor using nickel oxide was studied. The efficiency of the system was evaluated with respect to reaction time, pH, feed concentration of reactants, catalyst load. The concentrations of phenol after reaction were determined by UV visible. The results showed that the optimum conditions ( 100% conversion at 90 min) were obtained at a neutral pH, with 0.5 g of Nickel Oxide and 18oC. However, decreasing of efficiency was observed for pH in the range of 2–12. The results showed that increasing temperature from 18oC to 50oC lead to decrease the conversion from 80% to 62%. Analytical profiles on phenol transformation were consistent with the best line fit of the Eley-Rideal Mechanism. Moreover, the degradation rate constants k and Ke were found 1.1*10-3 (cm3.liter/gcata) and 4.9889 respectively with R2=0.99522. Finally, the results of mineralization studies indicated that dechlorination was better accomplished but more time was required to completely mineralize phenol into water and carbon dioxide.

تركز الدراسة الحالية على استخدام أكسيد النيكل في عملية الأكسدة المتقدمة للفينول. إزالة الفينول من الماء لا تزال قضية بيئية هامة. في هذا العمل، تم دراسة أكسدة الفينول في المحاليل المائية في مفاعل Batch باستخدام أكسيد النيكل. تم حساب نسبة الإزالة من خلال زمن التفاعل، درجة الحموضة، تركيز المواد المتفاعلة، وكمية العامل المساعد. استخدمت الأشعة فوق البنفسجية لقياس تركيز الفينول بعد التفاعل. أظهرت النتائج التي تم الحصول عليها في الظروف المثلى (100٪ تحول في 90 دقيقة) في الرقم الهيدروجيني المعتدل، مع 0.5 غ من أكسيد النيكل و18 درجة مئوية. ومع ذلك، انخفضت كفاءة التفاعل عند الاس الهيدروجيني في حدود 2-12. أظهرت النتائج أن زيادة درجة الحرارة من 18 درجة مئوية إلى 50درجة مئوية تؤدي إلى تقليل التحول من 80٪ إلى 62٪. تم نمذجة تحول الفينول بما يتفق مع أفضل خط مناسبا Eley-Rideal Mechanism. وعلاوة على ذلك، تم حساب ثابت التفاعل 1.1*10-3 (cm3.liter/gcata) and 4.9889 على التوالي مع وأخيرا، أشارت نتائج الدراسات التي تؤدي الى إزالة جزيئه الكلور أفضل ولكن مع وقت أكثر ليتحول الفينول تماما إلى الماء وثاني أكسيد الكربون.


Article
Structural Properties of Semiconducting Nanostructures Prepared by DC Plasma Reactive Sputtering Method

Author: Noor I. Naji
Journal: Iraqi Journal of Applied Physics المجلة العراقية للفيزياء التطبيقية ISSN: 18132065 23091673 Year: 2014 Volume: 10 Issue: 3 Pages: 41-44
Publisher: iraqi society for alternative and renewable energy sources and techniques الجمعية العراقية لمصادر وتقنيات الطاقة البديلة والمستجدة

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, semiconducting nickel oxide (NiO) nanostructures were prepared by reactive dc plasma sputtering method. Magnetron was employed at the cathode to prepare these nanostructures and show the advantage of such device in the production of highly pure nanostructures. The sputtered nickel atoms were sputtered and oxidized in presence of oxygen in the Ar:O2 gas mixture of 4:1 ratio. Employment of magnetron results in formation of NiO only in the final samples according to the XRD analysis, increase the roughness and hence surface area of the produced NiO nanostructures, and finally decrease the particle size of NiO nanoparticles lower than 100nm. These improvements in the structural properties of the produced NiO make these nanostructures good candidates for specific applications, such as photodetectors, solar cells and electrochromic smart windows.


Article
Study the Effect of Rapid Thermal Annealing on Thin Films Prepared By Pulse Laser Deposition Method
دراسة تاثير التلدين الحراري السريع على الاغشية الرقيقة المحضرة بطريقة الترسيب بالليزر النبضي

Author: Heba Salam Tareq
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2014 Volume: 32 Issue: 3 Part (B) Scientific Pages: 444-452
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

In this paper, the synthesis of nanocrystalline Nickel oxide (NiO) thin films on quartz substrates using a pulsed 532 nm Q-Switched Nd: YAG laser is presented, the annealing temperature was varied from (200 - 400 ˚C). The X-ray diffraction (XRD) results show that the deposited films are crystalline in nature. Furthermore, a higher annealing temperature resulted in a thicker NiO film, which was attributed to an increased grain size. The morphology of deposited films were characterized by scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM);with increasing annealing temperature, the grain size increase .The grain size value (10,23 and 40 nm) for thin films annealing at 200 ,300 and 400˚C respectively., and with increasing annealing temperature, surface roughness decrease. RMS roughness values were (13.5, 7.8 and 5.5 nm) for thin films annealing at 200, 300 and 400˚C respectively. UV–Vis spectrophotometric measurement showed high transparency (nearly 92 % in the wavelength range 400–900 nm) of the NiO thin film with a direct allowed band gap value lying in the range 3.51–3.6 eV.

في بحثنا هذا , تم تحضير اغشية رقيقة نانوية لاوكسيد النيكل(NiO ) على قواعد من الكوارتز باستخدام ليزر نيدميوم ياك النبضي ذو الطول الموجي( nm 532) , تغيرت درجة حرارة التلدين من (200-400) درجة مئوي . اظهرت نتائج حيود الاشعة السينية ان الاغشية المحظرة ذات طبيعة بلورية , كما ادى زيادة درجة حرارة التلدين الى زيادة بالحجم الحبيبي لاغشية اوكسيد النيكل. تم دراسة طبوغرافية السطح باستخدام المجهر الالكتروني الماسح) SEM) ومجهر القوى الذرية (AFM) . بزيادة درجة حرارة التلدين ازداد الحجم الحبيبي.حيث تراوحت قيم الحجم الحبيبي لاغشية اوكسيد النيكل (10,23 و40) نانومتر عند درجات حرارة تلدين (200 ,300 و400 ) مئوي على التوالي.ايضا" ادت زيادة درجة حرارة التلدين الى نقصان بخشونة السطح للاغشية المحضرة. حيث تراوحت قيم الخشونة لاغشية اوكسيد النيكل (13.5 , 7.8 و 5.5) نانومتر عند درجات حرارة تلدين (200 ,300 و400 ) مئوي على التوالي. كذلك تم دراسة الخصائص البصرية بواسطة مطياف النفاذية للأشعة المرئية وفوق البنفسجية .حيث اظهرت النتائج نفاذية أعلى من 92 % عند مدى الطول الموجي (400-900) نانومتر لاغشية اوكسيد النيكل الرقيقة وتراوحت قيمة فجوة الطاقة للانتقال المباشر المسموح ( 3.51 - 3.6 ) الكترون فولت.


Article
Enhanced hydrogen gas sensitivity employing sputtered deposited NiO thin films
تحسسية محسنه لغاز الهيدروجين باستخدام اغشية اوكسيد النيكل الرقيقة المرسبة بالترذيذ

Author: Afaf F.Sultan عفاف فاضل سلطان
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2016 Volume: 14 Issue: 30 Pages: 150-157
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, nickel oxide thin films have been successfully deposited on glass substrates by sputtering technique at different temperatures, and explored as a fast response sensor to hydrogen reducing gas.The nickel oxide sensor exhibits an increase of the conductance upon exposure to hydrogen gas of various concentrations at different operating temperatures. Pure sputtered NiO sample showed excellent sensitivity S of 1488%to hydrogen gas at the optimum H2: air concentration of 3.75%.The variation of the operating temperature of the film has led to a significant change in the sensitivity of the sensor with an ideal operating temperature of about 275℃ after which it began to saturate with increasing temperature and test was terminated. The variation of NiO sensor sample with H2: air gas ratio concentration showed linear relationship up to 3% after which saturation of S occurred.

في هذا البحث, تم تحضير اغشية لاوكسيد النيكل على قواعد زجاجية باستخدام طريقة الترذيذ وتم تفحصها كمتحسس سريع الاستجابة لغاز الهيدروجين المحتزل عند درجات حرارية مختلفة. ولقد اظهر متحسس اوكسيد النيكل زيادة في التوصيلية بتعرضه لغاز الهيدروجين عند تراكيز و درجات حرارة مختلفة. اظهر النموذج النقي لاوكسيد النيكل تحسسية فائقة مقدارها 1488% لغاز الهيدروجين عند تركيز 3.75%. ان تغير درجات الحرارة لهذا المتحسس ادى الى تغير ملحوظ في الحساسية حيث كانت درجة الحرارة المثالية للاشتغال حوالي 275 درجة مئوية بعدها بدات الحساسية بالتشبع بزيادة درجات الحرارة. ان تغير حساسية المتحسس مع نسبة تركيز غاز الهيدروجين في الهواء اظهرت علاقة خطية حتى تركيز 3% وبعدها تحدث حالة اشباع للتحسسية.


Article
Structural Properties of Nickel Oxide Nanostructures Prepared by Closed-Field Unbalanced Dual Magnetron Sputtering Technique

Authors: Firas J. Kadhim --- Oday A. Hammadi --- Mohammed K. Khalaf
Journal: Iraqi Journal of Applied Physics المجلة العراقية للفيزياء التطبيقية ISSN: 18132065 23091673 Year: 2017 Volume: 13 Issue: 2 Pages: 3-10
Publisher: iraqi society for alternative and renewable energy sources and techniques الجمعية العراقية لمصادر وتقنيات الطاقة البديلة والمستجدة

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, nickel oxide nanostructures were prepared by a closed-field unbalanced dual magnetron plasma sputtering technique. The structural characterizations performed on the prepared samples showed that they were polycrystalline and the optimization of preparation conditions, only two crystal planes; (111) and (012), were observed in the final product. The surface roughness of the nanostructures can be varied by controlling the inter-electrode distance. Minimum particle size of 25nm was determined for the samples prepared at inter-electrode distance of 6cm.


Article
Structural Characterization of NiO/Cr2O3Composites and Hydrothermal Synthesis, Properties Gas Sensing

Authors: Ghuson H. Mohammed --- Tunis B.Hassan --- Zainab T.Abdulhamied
Journal: Al-Nahrain Journal of Science مجلة النهرين للعلوم ISSN: (print)26635453,(online)26635461 Year: 2018 Volume: 21 Issue: 1 Pages: 59-64
Publisher: Al-Nahrain University جامعة النهرين

Loading...
Loading...
Abstract

Pure Cr2O3 and NiO/Cr2O3 nanocomposite were luckily synthesized by simple hydrothermal technique. X-ray films diffraction (XRD), Filed Emission scanning electron microscopy (FESEM), Energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS), were used to research the crystalline structures, surface morphologies and nanostructures, and element components and their valences of the as-synthesized samples. Moreover, gas sensors based on the synthesized pure Cr2O3 and NiO/ Cr2O3 composites were fabricated and their sensing behavior, to NH3.Gas sensing experiments reference that the NiO/ Cr2O3 composites showed much higher gas response and lower working temperature than those of pure Cr2O3. These results assure that the as-synthesized NiO/ Cr2O3 composites a favorable NH3 sensing material


Article
The effect of annealing temperatures on the optical parameters of NiO0.99Cu0.01thin films
تأثير درجة حرارة التلدين على المعلمات البصرية لأغشية NiO0.99Cu0.01 الرقيقه

Author: Ramiz A.Mohammed Al-Ansari رامز احمد محمد الانصاري
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2016 Volume: 14 Issue: 29 Pages: 73-81
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

NiO0.99Cu0.01 films have been depositedusing thermal evaporation technique on glass substrates under vacuum 10-5mbar.The thickness of the films was 220nm. The as -deposited films were annealed to different annealing temperatures (373, 423, and 473) K under vacuum 10-3mbar for 1 h.The structural properties of the films were examined using X-ray diffraction (XRD).The results show that no clear diffraction peaks in the range 2θ= (20-50)o for the as deposited films. On the other hand, by annealing the films to 423K in vacuum for 1 h, a weak reflection peak attributable to cubic NiO was detected. On heating the films at 473K for 1 h, this peak was observed to be stronger. The most intense peak is at 2θ = 37.12o with the preferential orientation of the films being (111) plane. The optical properties of the films have been studied. The effect of annealing temperature on the optical parameters of NiO0.99Cu0.01 such as transmittance, reflectance, absorption coefficient, refractive index, extinction coefficient, and real and imaginary parts of dielectric constant has been reported.

تم ترسيب أغشيه رقيقه من أوكسيدالنيكل المشوب بالنحاس NiO0.99:Cu0.01 على قواعد زجاجية باستخدام تقنية التبخير الحراري. تم دراسة الخواص البصرية للاغشية المحضرةكداله لدرجة حرارة التلدين. تم تلدين الاغشية المحضرة لثلاث درجات حرارة تلدين (373, 423, و 473) كلفن.تم فحص خصائص تركيب الاغشية المحضرة باستخدام حيود الاشعة السينية(XRD).لقد اظهر فحص تركيب هذه الاغشية بانه لاتوجد اي قمم ضمن المدى 2θ (20-50)o للغشاء المحضر في درجة حرارة الغرفة, بينما عند تلدين الاغشية لدرجة حرارة 423K ولمدة ساعة واحدة ظهرت قمة ضعيفة, وبزيادة درجة حرارة التلدين الى 473K ظهر بان القمة اصبحت اكثر شدة وان الأتجاهات الشبيكية المفضلة لبلورات الغشاء هي .(111)تم دراسة تأثير التلدين على المعلمات البصرية لأغشية NiO0.99:Cu0.01الرقيقة مثل: النفاذية، الانعكاسية، معامل الامتصاص, معامل الأنكسار، معامل الخمود، ثابت العزل الحقيقي وثابت العزل الخيالي.


Article
Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films
الترسيب بالترذيذ التفاعلي لل DC ماكنترون والخواص التركيبية لاغشية اوكسيد النيكل

Authors: Ibrahim R. Agool --- Mohammed K. Khalaf --- Shaimaa H. Abd Muslim --- Riyadh N. Talaq
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2015 Volume: 33 Issue: 6 Part (B) Scientific Pages: 1082-1092
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

Nickel oxide (NiO) films were deposited by using a homemade DC reactive magnetron sputtering system at different working pressure in the range (0.05-0.14)mbar. The effect of working pressure on the structure, surface morphology, optical of NiO films was investigated. X-ray diffraction (XRD) results suggested that the deposited films were formed by nanoparticles with average particle size in the range of (8.145-29.195) nm. And the films are identified to be polycrystalline nature with a cubic structure along (111) and (101) orientation also Ni2O3 was found by XRD. The texture of the films was observed using SEM and AFM, it was observed that the grain size was increased with working pressure. The energy band gap was found to be in the range of (4.1 eV to 3.9 eV) When the film thickness varying from 73 nm to 146.9 nm.

تم ترسيب اغشية اوكسيد النيكل(NiO) بأستخدام منظومة بلازما الماكنترون للتيارات المستمرة المحلية الصنع وبطريقة الترذيذ التفاعلي وبضغوط عمل مختلفة ضمن المدى (0.05-0.14) ملي بار. وقد تم دراسة تأثير ضغط العمل على تركيب ومورفولوجية السطح والخواص البصرية لاغشية اوكسيد النيكل .واقد اظهرت نتائج حيود الاشعة السينية ان الاغشية المترسبة ذات تركيب نانوي وبمعدل حجم حبيبي بين (8.145-29.195) نانومتر.بالاضافة لكون الاغشية ذات طابع متعدد التبلور مع بنية مكعبة على طول (111) و(101) التوجه. وعلاوة على ذلك تم العثور على Ni2O3بواسطة حيود الاشعة السينية. كما تم دراسة تركيب الاغشية باستخدام SEM وAFM ، وقد لوحظ زيادة حجم الحبوب مع زيادة ضغط العمل.وقد وجد ان فجوة الطاقة في حدود (4.1 الكترون-فولت الى 3.9 الكترون-فولت) عندما يكون سمك الغشاء يتراوح بين 73 نانومتر إلى 146.9 نانومتر.


Article
Structural and Optical Characterization of Nickel Oxide Thin Films Prepared by Spray Pyrolysis Technique
الخصائص التركيبية والبصرية لأغشية اوكسيد النيكل الرقيقة المحضرة بطريقة الرش الحراري

Author: Fadheela H. Oleiwe
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2015 Volume: 33 Issue: 8 Part (B) Scientific Pages: 1503-1512
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

In this research, Nickel oxide (NiO) thin film were prepared by using nickel chloride ( NiCl2.6H2O) on glass substrate by using Spray Pyrolysis technique. The Structural and optical properties were studied for the growth thin films under influence different molarities (0.5,1,2 M) by XRD , SEM . The optical properties studied in the wavelength range from 200-1100nm measured by UV-VIS Spectrometer device. The X-ray diffraction studies indicated that intensity was increased with molarities increase and had cubic structure , these films has grain size values (4.13-11.95 nm) with different molarities (0.5, 1 , 2M) , SEM found the films has smooth surface with grains scattered throughout the surface and the surface the films filled with the clusters of the larger grains the at increase molarities and AFM it is found the (RMS) of NiO films increased from 7.77 to 20.7 nm and the roughness average increased from 5.73-15.6 nm with the increase of molarities from 0.5-2 M . From the optical studies it is found the film thickness increased with molarities increase, while the transmittance decreased from approximately 75% to approximately 54% and the energy gap for the NiO films varies from ( 3.65 to 3.1eV) as the molarities increase.

في هذا البحث حضر اوكسيد النيكل باستخدام كلوريدات النيكل على قاعدة زجاجية باستخدام تقنية الرش الحراري , درست الخصائص التركيبية والبصرية للاغشية النامية تحت تأثير المولارية بواسطة فحص حيود الأشعة السينية والمجهر الالكتروني الماسح ومجهر القوة الذرية , الخصائص البصرية درست عند طول الموجي من 200-1100 نانومتر مقاسه بواسطة استخدام جهاز مطياف UV -VIS .ان فحص حيود الاشعة السينية اشار الى ان الشدة تزداد بزيادة المولارية وتمتلك تركيب مكعب , هذه الاغشية لها حجم حبيبي قيمته تتغير من (4.13-11.95) مع تغيير التركيز (0.5,1,2) مولارية , وجد المجهر الالكتروني الماسح الاغشية تمتلك سطح ناعم مع انتشار الحبوب في كافة انحاء السطح , وسطح الاغشية ملأت بعناقيد بالحبوب الكبيرة بزيادة المولارية , ومجهر القوة الذرية وجد ان قيمة مربع متوسط الجذر تزداد من (7.77 الى 20.7) ومعدل الخشونة يزداد من( 5.73 الى 15.6 ) عندما تتغير قيمة المولارية من ( 0.5 الى 2 ). من دراسة الخصائص البصرية وجد ان السمك يزداد مع زيادة المولارية بينما النفاذية قلت تقريباَ من 75% الى 54% وفجوة الطاقة لاغشية اوكسيد النيكل تتغير من( 3.65 الى 3.1 ) الكترون فولت عند زيادة المولارية


Article
Preparation and Characterization of Nickel Oxide Thin Films by Electrostatic Spray Technique
تحضير ودراسة خصائص الاغشية الرقيقة لاوكسيد النيكل المحضرة بتقانه الرش الكهربائي المستقر

Loading...
Loading...
Abstract

A simple, inexpensive, and home–built electrostatic spray deposition (ESD) system with stable cone-jet mode was used to obtain nickel oxide (NiO) thin films on glass substrates kept at temperature of 400°C. The primary precursor solution of 0.1 M concentration hydrated nickel chloride dissolved in isopropyl alcohol. The structural, optical and electrical parameters were studied. The optical absorbance spectra for the studied samples showed its maximum around 280 nm. On the other hand, thickness interferometry measurements on the tested samples showed that film thickness was around 400 nm. The optical energy gap of the prepared NiO samples was determined to be 3.75 eV and the maximum value of refractive index was determined to be 2.1 at 350 nm.

تم استخدام طريقة ترسيب الرش الكهربائي المستقر البسيطة وغير المكلفة والمتجانسة للحصول على اغشية رقيقة لاوكسيد النيكل المرسبة على قواعد زجاجية بدرجة حرارية 400 سيليزي. المحلول الاولي كان كلورايد النيكل المهدرج المذاب في ايسوبروبيل الكحول بتركيز 0.1 مولاري.ثم دراسة الخصائص التركيبية والكهربائية والبصرية ولذلك طيف الامتصاص البصري للاغشية المحضرة اظهرت اعلى قيمة لها عند الطول الموجي 280 نانو متر. وكذلك ،تم قياس السمك بطريقة التداخل البصري حيث ان سمك الاغشية كان حوالي 400 نانومتر. فجوة الطاقة البصرية للاغشية والعينات المحضرة حددت ب 3.75 الكترون فولت واقصى قيمة لمعامل الانكسار كان بحدود 2.1 عند 350 نانومتر.

Listing 1 - 10 of 13 << page
of 2
>>
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (13)


Language

English (10)

Arabic (1)

Arabic and English (1)


Year
From To Submit

2019 (2)

2018 (1)

2017 (1)

2016 (3)

2015 (2)

More...