research centers


Search results: Found 5

Listing 1 - 5 of 5
Sort by

Article
Effect of sputtering power on optical Properties of RF sputtering deposited Ti6Al4V Thin Films
تأثير القدرة المجهزة لمنظومة الترذيذ بالترددات الراديوية على الخصائص البصرية لأغشية Ti6Al4V الرقيقة

Authors: Mohammed K. Khalaf محمد خماس خلف --- Dawood Salman Ali داود سلمان علي
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2017 Volume: 15 Issue: 33 Pages: 71-77
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

Ti6Al4V thin film was prepared on glass substrate by RF sputtering method. The effect of RF power on the optical properties of the thin films has been investigated using UV-visible Spectrophotometer. It's found that the absorbance and the extinction coefficient (k) for deposited thin films increase with increasing applied power, while another parameters such as dielectric constant and refractive index decrease with increasing RF power.

تم تحضير اغشية رقيقة من سبيكة (Ti6Al4V) على ارضيات زجاجية باستخدامتقنية الترذيذ بالترددات الراديوية.تم دراسة تأثير القدرة المجهزة على الخصائص البصرية للأغشية الرقيقة باستخدام تقنية امتصاص الأشعة المرئية فوق البنفسجية.وجد ان معاملي الامتصاص والخمود يزدادان بزيادة الفولتية المجهزة.بينما باقي المعاملات مثل ثابت العزل ومعامل الانكسار تقل بزيادة الفولتية المسلطة.


Article
The Influence of RF power, pressure and substrate temperature on optical properties of RF Sputtered vanadium pentoxide thin films
تاثير الطاقة والضغط ودرجة حرارة الركيزة على الخصائص البصرية للاغشية الرقيقة لخامس اوكسيد الفاناديوم باستخدام الترذيذ بالترددات الراديوية

Authors: Ibrahim K. salman إبراهيم خلف سلمان --- N.K. Hassan نديم خالد حسن --- Mohammed K. Khalaf محمد خماس خلف
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2018 Volume: 16 Issue: 39 Pages: 42-47
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

The V2O5 films were deposited on glass substrates which produce using "radio frequency (RF)"power supply and Argon gas technique. The optical properties were investigated by, UV spectroscopy at "radio frequency" (RF) power ranging from 75 - 150 Watt and gas pressure, (0.03, 0.05 and 0.007 Torr), and substrate temperature (359, 373,473 and 573) K. The UV-Visible analysis shows that the average transmittance of all films in the range 40-65 %. When the thickness has been increased the transhumance was decreased from (65-40) %. The values of energy band gap were lowered from (3.02-2.9 eV) with the increase of thickness the films in relation to an increase in power, The energy gap decreased (2.8 - 2.7) eV with an increase in the pressure and substrate temperature respectively.

تم ترسيب أغشية رقيقة من خامس اكسيد الفاناديوم على ركائز زجاجية التي تنتج باستخدام طاقة التردد الراديوي وتقنية غاز الأرجون، وتم بحث الخواص البصرية بواسطة دراسة مطيافية مرئية فوق بنفسجية عند قدرة التردد الراديوي من 75 - 150 واط وضغط الغاز 0.03 تور، .050 تور و 0.007 تور، ودرجة حرارة الركيزة (359، 373، 473 و 573) كلفن. أظهر التحليل الطيفي المرئي و للأشعة فوق البنفسجية أن متوسط نفاذ جميع الأغشية يكمن في نطاق 40-65 ٪ و عندما زاد السمك انخفضت نسبة الانتقال مـــن (65 -40) %. و انخفضت فجوة النطاق الضوئي للغشاء من 3.02 إلى 2.9 الكترون فولت, مع زيادة سماكة الأغشية مقارنة بالزيادة في القدرة، من ناحية أخرى انخفضت فجوة النطاق من 2.8 إلى 2.7 الكترون فولت, مع زيادة الضغط ودرجة حرارة الركيزة على التوالي.


Article
The Growth Characteristics of RF-Magnetron Sputtered Nanocrystalline TiO2 Thin Films

Authors: Azhar K. Sadkhan --- Suaad A. Mohammed --- Mohammed K. Khalaf
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2018 Volume: 36 Issue: 2 Part (B) Engineering Pages: 128-130
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

In this paper, RF Magnetron sputtered TiO2 thin films deposited onglass slices at various powers (75,100,125 and 150) Watt for (1.5) hour anddifferent thickness (62.5-88-118 and 132.6) nm, the TiO2 thin films annealed with400°C for 2 hour and the morphology and structure of these films are describedby X-ray diffraction XRD and atomic force microscopy AFM to show the phasestructure. X-ray diffraction investigation uncovered that the crystalline size of theTiO2 thin films displays an expanding pattern with increasing the sputteringpower. The preferred orientation of (101) was watched for the films depositedwith sputtering power of (75,100,125 and 150) Watt


Article
Enhancement of gas response of annealed ZnO film for hydrogen gas detection
تعزيز استجابة غشاء اوكسيد الخارصين الملدن للكشف عن غاز الهيدروجين

Author: Thamir A.A. Hassan ثامر عبد الامير حسن
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2014 Volume: 12 Issue: 23 Pages: 73-79
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

The mechanism of hydrogen (H2) gas sensor in the range of 50-200 ppm of RF-sputtered annealed zinc oxide (ZnO) and without annealing was studied. The X-ray Diffraction( XRD) results showed that the Zn metal was completely converted to ZnO with a polycrystalline structure. The I–V characteristics of the device (PT/ZnO/Pt) measured at room temperature before and after annealing at 450 oC for4h, from which a linear relationship has been observed. The sensors had a maximum response to H2 at 350 oC for annealing ZnO and showed stable behavior for detecting H2 gases in the range of 50 to 200 ppm. The annealed film exhibited higher response than the film without annealing.. The sensing mechanism was modeled according to the oxygen–vacancy model.

درست في هذا البحث ميكانيكية تحسس متحسسات الهيدرجين من تركيز 50 الى 200 جزء بالمليون لاغشية ZnO الملدنة بدرجة 450 درجة مئوية لمدة اربعة ساعات وللاغشية غير الملدنة والمحضرات بطريقة RF-sputtering. واظهرت نتائج فحوصات الاشعة السينية تكون غشاء اوكسيد الخارصين متعدد التبلور, وكما اظهرت قياسات تيار – فولتية للمتحسس بلاتين/اوكسيد الخارصين/بلاتين قبل التلدين وبعده وجود علاقة خطية للغشاء الملدن. واظهرت نتائج استجابة الغشاء الملدن كانت اقصاها في درجة حرارة 350 درجة مئوية. كما واظهرت النتائج ان سلوك مستقر في استجابة المتحسسات لتراكيز الهيدروجين من50-200 جزء بالمليون واستجابة اعلى للاغشية الملدنة. واعتمد على نموذج اوكسجين- فراغ في تفسير ميكانيكية التحسس.


Article
Optical Characterizations of RF-Magnetron Sputtered Nanocrystalline TiO2 Thin Film

Author: Azhar K. Sadkhan
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2018 Volume: 36 Issue: 2 Part (B) Engineering Pages: 156-159
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

TiO2 nanocrystalline thin films are widely used as antireflection coatingin solar cell, in this paper, RF magnetron sputtering technique is used to prepareTiO2 thin film on glass substrates, TiO2 thin films deposited under differentpowers (75,100,125 and 150) Watt for (1.5) hour resulted in different layerthickness (62.5,88,118 and 132.6) nm respectively. The optical propertiesexamined by UV-VIS spectroscopy. TiO2 thin films exhibit a high transparency inthe region from about 350 nm above, we suggest that these results indicate themost suitable growing conditions for obtaining high quality sputtered TiO2 thinfilms with higher transparence performance for solar cell application. the opticalabsorbance coefficient for all films were genuinely high esteems coming to above104cm-1, which implies that there is allowed direct transitions, the energy gabreach to the typical value of the bulk TiO2 (3.5) eV

Listing 1 - 5 of 5
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (5)


Language

English (4)


Year
From To Submit

2018 (3)

2017 (1)

2014 (1)