research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
Effect of sputtering power on optical Properties of RF sputtering deposited Ti6Al4V Thin Films
تأثير القدرة المجهزة لمنظومة الترذيذ بالترددات الراديوية على الخصائص البصرية لأغشية Ti6Al4V الرقيقة

Authors: Mohammed K. Khalaf محمد خماس خلف --- Dawood Salman Ali داود سلمان علي
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2017 Volume: 15 Issue: 33 Pages: 71-77
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

Ti6Al4V thin film was prepared on glass substrate by RF sputtering method. The effect of RF power on the optical properties of the thin films has been investigated using UV-visible Spectrophotometer. It's found that the absorbance and the extinction coefficient (k) for deposited thin films increase with increasing applied power, while another parameters such as dielectric constant and refractive index decrease with increasing RF power.

تم تحضير اغشية رقيقة من سبيكة (Ti6Al4V) على ارضيات زجاجية باستخدامتقنية الترذيذ بالترددات الراديوية.تم دراسة تأثير القدرة المجهزة على الخصائص البصرية للأغشية الرقيقة باستخدام تقنية امتصاص الأشعة المرئية فوق البنفسجية.وجد ان معاملي الامتصاص والخمود يزدادان بزيادة الفولتية المجهزة.بينما باقي المعاملات مثل ثابت العزل ومعامل الانكسار تقل بزيادة الفولتية المسلطة.

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2017 (1)