research centers


Search results: Found 2

Listing 1 - 2 of 2
Sort by

Article
Annealing Effect on the Growth of Nanostructured TiO2 Thin Films by Pulsed Laser Deposition (PLD)
تأثير التلوين على انماء الاغشية الدقيقة ل((TiO2 ذات التركيب الثانوي بواسطة تركيب الليزر النبضي

Authors: Sarmad S.Kaduory --- Ali A.Yousif --- Adawiya J. Haider --- Khaled Z.Yahya
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2013 Volume: 31 Issue: 4 Part (B) Scientific Pages: 460-470
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, Nanostructured TiO2 thin films were grown by pulsed laser deposition (PLD) technique on glass substrates at 300 °C. TiO2 thin films were then annealed at 400-600 °C in air for a period of 2 hours. Effect of annealing on the structure, morphology and optical properties were studied. The X-ray diffraction (XRD) and Atomic Force Microscopy (AFM) measurements confirmed that the films grown by this technique have good crystalline tetragonal mixed anatase and rutile phase structure and homogeneous surface. The study also reveals that the RMS value of thin films roughness increased with increasing annealing temperature .The optical properties of the films were studied by UV-VIS spectrophotometer. The optical transmission results shows that the transmission over than ~65% which decrease with the increasing of annealing temperatures. The allowed indirect optical band gap of the films was estimated to be in the range from 3.49 to 3.1 eV. The allowed direct band gap was found to decrease from 3.74 to 3.55 eV with the increase of annealing temperature. The refractive index of the films was found from 2.27 -2.98 at 550nm. The extinction coefficient increase with annealing temperature.

في هذه البحث، تم انماء أغشية اوكسيد التيتانيوم ((TiO2 النانوية بواسطة تقنية ترسيب الليزر النبضي (PLD) على قواعد زجاجية في درجة حرارة 300 مئوية. ومن ثم لدنت أغشية TiO2 الرقيقة من 400 الى 600 درجة مئوية في الهواء لمدة ساعتين . وتم دراسة تأثير التلدين على تركيب وطبوغرافية السطح والخصائص البصرية. من قياسات حيود الأشعة السينية (XRD) ومجهر القوة الذرية ((AFM اثبت بأن الاغشية المنمات بهذه الطريقة لها تبلور جيد وذات تركيب رباعي وخليط من طورين الأناتاس والروتيل وذات سطح متجانس. وتظهر الدراسة بأن قيم RMS للأغشية الرقيقة والخشونة تزداد مع زيادة درجة الحرارة التلدين. وتم دراسة الخصائص البصرية للأغشية في مطياف النفاذية للأشعة المرئية وفوق البنفسجية (قيست بواسطة مطياف(UV-VIS . نتائج النفاذية الضوئية تظهر بأن هنالك نفاذية أكثر من~ 65٪ والتي تقل مع زيادة درجات الحرارة التلدين. فجوة الطاقة البصرية المسموحة الغير مباشرة الأغشية قدرة بحدود من 3.49 الى 3.1 الكترون فولت. ووجد ان فجوة الطاقة البصرية المسموحة المباشرة تقل من 3.74 الى 3.55 إلكترون فولت بزيادة درجة حرارة التلدين. ووجد ان معامل الانكسار للأغشية تتراوح من 2.27 الى 2.98 عند الطول الموجي 550 نانومتر. وان معامل الخمود يزداد بزيادة درجة حرارة التلدين


Article
Study of Annealing Effect on the Some Physical Properties of Nanostructured TiO2 films prepared by PLD
دراسة تأثير التلدين على بعض الخصائص الفيزيائية للأغشية TiO2التركيب النانوي المصنعة بتقنية PLD

Authors: Ali A.Yousif علي احمد يوسف --- Sarmad S. Al-Obaidi سرمد العبيدي
Journal: Journal of College of Education مجلة كلية التربية ISSN: 18120380 Year: 2013 Issue: 3 Pages: 139-160
Publisher: Al-Mustansyriah University الجامعة المستنصرية

Loading...
Loading...
Abstract

Nanostructured Titanium Dioxide (TiO2) thin films were prepared by pulsed laser deposition (PLD) on the glass substrates. The effects of different annealing temperature (400, 500 and 600 °C) towards the some physical properties such as structural, morphological and optical have been studied. From X-ray diffraction result, the crystallinity of TiO2 thin films improved at higher annealing temperature. It also could be observed that the rutile phase start to exist at annealing temperatures of 500 °C and 600 °C. The Full Width at Half Maximum (FWHM) of the (101) peaks of these films decreases from 0.450° to 0.301° with increasing of annealing temperature. AFM measurements confirmed that the films grown by this technique have good crystalline and homogeneous surface. The Root Mean Square (RMS) value of thin films surface roughness increased with increasing of the annealing temperature. From UV-VIS spectrophotometer measurements, the optical transmission results shows that theمجلة كلية التربية ............................................................. العدد الثالث 3102140transmission over than ~65% in the near-infrared region which decrease with the increasing of annealing temperatures. The allowed indirect optical band gap of the films was estimated to be in the range from 3.49 to 3.1 eV. The allowed direct band gap was found to decrease from 3.74 eV to 3.55 eV with the increase of annealing temperature. The refractive index of the films was found from 2.27 -2.98 at 550nm. The extinction coefficient, real and imaginary parts of the dielectric constant increase with annealing temperature.

Listing 1 - 2 of 2
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (2)


Language

English (2)


Year
From To Submit

2013 (2)