research centers


Search results: Found 8

Listing 1 - 8 of 8
Sort by

Article
A Sandwich Porous Alumina Nanostructures Based on Anodic Alumina
التركيب النانوي لشطيرة الألومينا المسامية المبنية على أنودة الألومينا

Authors: Zeinab A. Jawad --- Ahmed A. Moosa --- Abdul Qader D. Faisal
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2010 Volume: 28 Issue: 11 Pages: 2091-2102
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

A sandwich porous anodic alumina membrane (PAA/Al/PAA) films was producedusing two-step anodization approach on both sides of (250) μm pure aluminum foilelectrode as an anode. A single sheet of stainless steel or graphite was used as acathode. Anodization on both sides of aluminum sheet was achieved. The anodizationprocesses and pore formation were studied and discussed in this work. The producedalumina membrane (5-30) μm thick was analyzed using scanning electron microscopy(SEM). The SEM image shows the PAA membranes has a well-defined nanostructure.The average pore diameter reaches (25) nm. The produced Al 2O3 membrane growingon both sides of aluminum sheet was separated into a twin nano membrane.

تم انتاج أغشية من الألومينا المسامي بطريقة الأنودة وبشكل الشطيرةباستعمال طريقة الأنودة ذات المرحلتين وعلى الجهتين لقطب من صفيحة (PAA/Al/PAA)الألمنيوم النقي بسمك 250 مايكروميتر كقطب الأنود.أُستعلمت صفيحة مفردة من الفولاذ اوالكرافايت كقطب الكاثود. تم أجراء الأنودة على الجهتين لصفيحة الألمنيوم. درس في هذا البحث(30- عمليات الأنودة وتكوين المسامات. تم تحليل أغشية الألومينا المنتجة ذات سمك حوالي ( 5(PAA) أظهرت النتائج بأن الأغشية .(SEM) مايكروميتر باستعمال المجهر الألكتروني الماسحتمتلك تركيب نانوي. ان معدل القطر المسامي يصل الى 25 نانوميتر. ان الغشاء المنتج للألومين اعلى جهتي صفيحة الألمنيوم قد تم فصله الى غشائين ذا تركيب نانوي.


Article
STUDY OF THE EFFECT OF NH4F CONCENTRATION ON THE STRUCTURE OF ELECTROCHEMICALLY PREPARED TiO2 NANOTUBES
دراسة تاثير تركيز NH4F على تركيب الانابيب النانوية لـ (TiO2) المحضرة الكتروكيميائياً

Loading...
Loading...
Abstract

In this study Titania nanotube arrays were prepared at room temperature (~25 ºC) via electrochemical anodization process of pure titanium foil in glycerol base electrolyte, different concentrations of ammonium fluoride salt (0.5 and 1.5wt.%) were added to the electrolyte as a tube enhancing agent. When anodizing Ti in 0.5 wt. % NH4F, nanotubes are formed with 54 ± 10 nm tube diameter, 20 ± 3 nm wall thickness and 1.76 µm tube length. When anodizing Ti in 1.5 wt. % NH4F, nanotubes are formed with 69 ± 10 nm tube diameter, 29 ± 3 nm wall thickness and 2.71 µm tube length. The morphology and structure of the Titania films were studied by scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD), and atomic force microscopy (AFM). PACS numbers: 81.65.Mg, 82.45. +z, 81.10.-h.

في هذه الدراسة صفوف التيتانيا نانوتيوب حضرت في درجة حرارة الغرفة ~25 ºC بطريقة الانودة الكهروكيمائية لصفائح التيتانيوم النقي في محلول كهربائي اساسه جليسيرول (glycerol)، تراكيز مختلفة من ملح فلوريد الامونيوم 0.5 and 1.5wt.% اضيفت الى المحلول كعامل محسن للانبوب. عندما يؤكسد التيتانيوم في 0.5 wt%.NH4F ، كان قطر الانابيب النانوية المشكلة 10nm± 54 ، سمك الجدار nm 3± 20 و µm 1.76 طول الانبوب. عندما يؤكسد التيتانيوم في 1.5 wt%.NH4F ، كان قطر الانابيب النانوية المشكلة 10nm± 69 ، سمك الجدار nm 3± 29 و µm 2.71 طول الانبوب. تمت دراسة مورفلوجية وتركيب افلام التيتانيا بواسطة المجهر الالكتروني الماسح، مجهر القوة الذرية و حيود الاشعة السينية.


Article
Effect of Anodization Duration in the TiO2 Nanotubes Formation on Ti Foil and Photoelectrochemical Properties of TiO2 Nanotubes

Author: Asmaa Kadim Ayal
Journal: Al-Mustansiriyah Journal of Science مجلة علوم المستنصرية ISSN: 1814635X Year: 2018 Volume: 29 Issue: 3 ICSSSA 2018 Conference Issue Pages: 77-81
Publisher: Al-Mustansyriah University الجامعة المستنصرية

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, the effect of anodizing duration on the morphology and photoelectrochemicalproperties of TiO2 nanotubes arrays (NTAs) has been investigated The samples were characterized by X-ray diffraction (XRD) and energy dispersive X-ray (EDX) to characterize their crystalline structure and compositional. Surface morphological and their dimensional variation was examined by field emission scanning electron microscopy (FESEM). The anodizing duration played a significant role in the formation of TiO2 nanotubes arrays. Moreover, the photoelectrochemical properties (PEC) were studied through photocurrent measurements. Optimum anodizing duration of 60 min at 40 V exhibited maximum photocurrent of 0.03 mA cm-2 under illumination of halogen light.


Article
Structural, Chemical and Morphological of Porous Silicon Produced by Electrochemical Etching
تركیبیة وكیمیائیة وتراكیب السطوح السلیكون المسامي المنتج بالتنمیش الكھروكیمیاوي

Authors: Amna A. Salman --- Fatima I. Sultan --- Uday M. Nayef
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2012 Volume: 30 Issue: 5 Pages: 855-867
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

In this paper, the nanocrystalline porous silicon (PS) films is prepared by electrochemical etching of p-type silicon wafer with different currents density (15 and 30 mA/cm2) and etching times on the formation nano-sized pore array with a dimension of around few hundreds nanometric. The films were characterized by the measurement of XRD, FTIR spectroscopy and atomic force microscopy properties.We have estimated crystallites size from X-Ray diffraction about nanoscale for porous silicon and Atomic Force microscopy confirms the nanometric size Chemical fictionalization during the electrochemical etching show on surface chemical composition of PS. The etching possesses inhomogeneous microstructures that contain a-Si clusters (Si3–Si–H) dispersed in amorphous silica matrix and (O-SiO,C-SiO). From the FTIR analyses showed that the Si dangling bonds of the as-prepared PS layer have large amount of Hydrogen to form weak Si–H bonds. The atomic force microscopy investigation shows the rough silicon surface, with increasing etching process (current density and etching time) porous structure nucleates which leads to an increase in the depth and width (diameter) of surface pits. Consequently, the surface roughness also increases.

في ھذا البحث تم تحضیر أغشیة السلیكون المسامي النانویة بطریقة التنمیش الكھروكیمیائي لرقائق السلیكون من النوع القابل مع كثافة تیارات ( 15 و 30 ملي امبیر/سم 2) لتكوین حفر بأحجام نانویة منظمة بحدود مئات قلیلة من الأبعاد النانومتریة وازمان تنمیش مختلفة وتم تشخیص الأغشیة من قیاسات حیودالأشعة السینیة ومطیافیة تحویلات فوریر للأشعة تحت الحمراء وخواص مجھر القوى الذري. من حیود الأشعة السینیة تم تخمین الحجم البلوري للسلیكون المسامي بالمقیاس النانو ومجھر القوى الذري یؤكد على ان الحجم بالنانومتر.كما تم تحدید المجامیع الفعالة الكیمیائیة خلال التنمیش الكھرو كیمیاوي تظھر على سطح المركب الكیمیائي للسلیكون المسامي. عملیة التنمیش الكھروكیمیائي التي تحوي على تراكیب غیر متجانسة في المشتتة في السلیكا (O-SiO, C-SiO) وعلى مجموعات (Si3-Si-H) السلیكون العشوائي مثل عناقیدالعشوائیة. من تحلیلات تحویلات فوریر للاشعة تحت الحمراء أظھرت أواصر السلیكون المتدلیة لطبقة Si-H السلیكون المسامي كما تم تم ترسیبھا حیث تحوي كمیة كبیرة من الھیدروجین على شكل أواصر الضعیفة. أظھرت اختبارات مجھر القوى الذري على سطح السیلیكون الخشن ، مع زیادة عملیة التنمیش(كثافة التیار وزمن التنمیش) نوى البنیة المسامیة الذي تؤدي إلى زیادة في عمق وعرض (القطر) من حفر السطح. وبالتالي فإن الزیادة بخشونة السطح أیضا تزداد.


Article
I-V and C-V Characteristics of Porous Silicon Nanostructures by Electrochemical Etching
خصائص (تيار- فولتية) و (سعة - فولتية) للسليكون المسامي نانوي التركيب بالتنميش الكهروكيمياوي

Authors: Fatima I. Sultan --- Amna A. Slman --- Uday M. Nayef
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2013 Volume: 31 Issue: 3 Part (B) Scientific Pages: 332-338
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

Porous silicon (PS) layers has been prepared in this work by electrochemical etching (ECE) technique of a p-type silicon wafer with resistivity (1.5-4 Ω.cm) in hydrofluoric (HF) acid of 20% concentration. Various affecting studied etching time (10, 30, and 45 min) and current density (15 mA/cm2). We have study the morphological properties (AFM) and the electrical properties (I-V and C-V).The atomic force microscopy investigation shows the rough silicon surface, with increasing etching process (etching time) porous structure nucleates which leads to an increase in the depth and width (diameter) of surface pits. Consequently, the surface roughness also increases.The electrical properties of prepared PS; namely current density-voltage characteristics under dark, show that the pass current through the PS layer decreased by increasing the etching time, due to increase the resistivity of PS layer. The PS layer shows a rectifying behaviour with different rectification ratio. C-V measurements shows that the increase of the etching time decreases the capacitance of the PS layer. This behavior was attributed to the increasing in the depletion region width which leading to the increasing of built-in potential.

في هذا البحث، تم تحضير السليكون المسامي بتقنية التنميش الكهروكيميائي لشريحة سليكون من النوع (p) بمقاومية (1.5-4 أوم.سم)، باستخدام حامض الهيدروفلوريك بتركيز 20%. جرى دراسة تاثير ازمان تنميش مختلفة (10، 30 و 45 دقيقة) وكثافة تيار (15 ملي امبير/سم2). تم دراسة الخصائص الطبوغرافية (AFM) والكهربائية (I-V) و (C-V) لطبقة السليكون المسامي .أظهرت فحوصات مجهر القوى الذري على سطح سليكون خشن ، مع زيادة عملية التنميش (زمن التنميش) نوى البنية المسامية الذي تؤدي إلى زيادة في عمق وعرض (القطر) من حفر السطح. وبالتالي فإن الزيادة بخشونة السطح أيضا تزداد.الخصائص الكهربائية لطبقة السليكون المسامي المحضرة؛ اي خصائص تيار - جهد تحت الظلام٬ أظهرت ان التيار المار خلال طبقة السليكون المسامي يقل بزيادة زمن التنميش٬ نتيجةً لزيادة مقاومية طبقة السليكون المسامي. أوضحت طبقة السليكون المسامي سلوكاً تقويمياً مع نسب تقويم مختلفة. أظهرت قياسات سعة - جهد ان بزيادة زمن التنميش تقل سعة طبقة السليكون المسامي. هذا السلوك يعزى الى الزيادة في عرض منطقة الاستنزاف التي تؤدي الى زيادة في جهد البناء الداخلي.


Article
Omnidirectional Mirrors for Porous Silicon Multilayer by Electrochemical Etching

Author: Uday Muhsin Nayef
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2011 Volume: 29 Issue: 15 Pages: 3185-3193
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

The measurements and calculations of monolayer and multilayer reflectance, made of porous silicon films, have been carried out. The multilayer component has been made of porous silicon layers that has refractive indices of nA=2.16 and nB= 1.55. The band structure of one dimensional photonic crystal has been calculated using the transfermatrix method which consists of alternative layers of two dielectric materials A and B. As for the multi layers component which are consist of the periodical repetition of two layers of different refractive indices (nH and nL) which has an omnidirectional photonicband gap (PBG), the width of which depends on the incidence medium and on the refractive index ratio nH/nL. In porous silicon, this ratio is limited by the material and fabrication characteristics. Theoretical and experimental study has been carried on the wide range of practical fabrication parameters for the formation of omnidirectional PBG.A band width of 400 nm is corresponding to a reflectivity higher than 97% which is suitable for applications of omnidirectional PBG at wavelength 1550 nm.


Article
Nanostructure and optical propertes of porous silicon layer
التركيب النانوي والخواص الضوئية لطبقة السيلكون المسامي

Loading...
Loading...
Abstract

In this paper nanostructures Porous silicon layers have been prepared by electrochemical etching (ECE) technique of (111) P-type silicon wafer with a solution Electrolytic HF: ethanol at a concentration of 1:2 with various anodization currents and etching time of 20 min. The morphological, structural and optical properties of nanostructure porous silicon were investigated by Atomic Force Microscopy (AFM), X-Ray Diffraction (XRD) and Photoluminescence (PL) respectively. From AFM images, we found that the PS layer has sponge like structure, and average diameter of pore and thickness of PS layer increased with increasing of the anodization currents. X-ray diffraction show that the crystal size was reduced toward nanometric scale, and then a broadening of diffraction peaks (111) was observed. The band gap of the samples was measured through the photoluminescence (PL) peak.

في هذا البحث تم تحضير التركيب النانوي لطبقات السليكون المسامي بواسطة تقنية التنميش الكهروكيميائي لرقاقة السليكون نوع (P) (111) ,مع محلول الكتروليتي مكون من حامض الهيدروفلوريد(HF) وكحول الايثانول بتركيز (2:1) بقيم مختلفة للتيار وبزمن تنميش (20) دقيقة . تم استقصاء طوبوغرافية التركيب والخواص الضوئية للسليكون المسامي ذو التركيب النانوي بواسطة فحص مجهر القوة الذرية (AFM) ,حيود الاشعة السينية (XRD) والاستضائة (PL) على التوالي, وجد من خلال صورة مجهر القوة الذرية ان طبقة السليكون المسامي اسفنجية وان معدل قطر وسمك المسام لطبقة السليكون المسامي يزداد مع زيادة التيار .دلت قياسات حيود الاشعة السينية على ان حجم البلورة يقل باتجاه تدريج النانو ومن ثم اتساع قمة الحيود (111) .حزمة الطاقة للعينات تقاس من خلال مقياس الاستضائة .


Article
Preparation of NanoPorous Alumina by Anodization Method and Study of Their Structural Properties
تحضير الألومينا ذات المسامات النانومترية بطريقة الانودة ودراسة خصائصها التركيبية

Author: Ali J Addie علي جبر عداي
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2016 Volume: 34 Issue: 5 Part (B) Scientific Pages: 176-185
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

Highly ordered nanoporous alumina structures have been prepared by electrochemical anodization for high purity Al-foils, electrolyte cell parameters have controlled to obtain optimum preparation conditions. Anodization potential, current density and electrolyte concentration effects on the prepared porous layer, surface morphology have been studied by scanning electron microscope and energy dispersive x-ray spectroscopy have used to analyze chemical composition of the samples.Results of the SEM show that the pore size was about 20-80 nm and it depends strongly on the anodization potential & electrolyte concentration, the higher anodization potential can destroy the barrier layer & cause a hi-dissolution rate of aluminum in the electrolyte, while with low potential a porous layer cannot be obtained. The highest degree of order and hexagonal distribution of pores was obtained with anodization potential of 20 volts and 0.2M of the electrolyte concentration. Results of EDS confirm the formation of the aluminum oxide layer with traces of sulfur which belong to the electrolyte.

حضرت تراكيب اوكسيد الالمنيوم المسامية النانومترية ذات التنظيم العالي بالانودة الكهروكيميائية لرقائق الالمنيوم عالية النقاوة، وجرى التحكم بمعلمات الخلية الكهروكيميائية للحصول على أفضل معل مات تحضير. درست تأثيراتالجهد والتيار الكهربائي المار في الخلية وتركيز المحلول على خ صائص الطبقة المسامية المتكتم .ةنو التركيز على دراسة مورفولوجية السطوح المتكونة باستخدام المجهر الالكتروني الماسح ودراسة التركيب الكيم يائي باستخدام مطياف الاشعة ا..ينية.بينت نتائج تحليلات المجهر الالكتروني الماسح ان اقطار المسامات التي تم الحصول عليها تراوحت بين 20 و 80 نانومتر وهي تعتمد بشكل كبير على جهد الأنودةوتركيز المحاليل، و أدت زيادة الجهد الى تدمير طبقة الحاجز وحصول اذابة سريعة للألمنيوم وتكوين سطوح متاكلة غير مسامية، بينما ادت الجهود المنخفضة الى عدم تكون طبقة مسامية، وقد تم الحصول على درجة انتظام عالي وتوزيع سداسي للمسامات عند جهد انودة 20 فولت وتركيز محلول 0.2M ، فيما بينت تحليلات مطيافيةالاشعة السينية المشتتة للطاقة تكون طبقة اوكسيد الالمنيوم مع وجود نسب من تراكيز الكبريت التي تعود لللالالول لالالكترول يتي.

Listing 1 - 8 of 8
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (8)


Language

English (7)

Arabic (1)


Year
From To Submit

2018 (1)

2016 (1)

2015 (1)

2013 (1)

2012 (2)

More...