research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
Preparation of porous silicon Wafers using sun light photo chemical etching (SLPCE)
تحضير شرائح السليكون المسامي النانوي باستخدام ضوء الشمس

Authors: I. K. Jassim1 اسماعيل خليل جاسم1 --- A. Y. Khudair1 احمد ياس خضير1 --- , H. Asker k2 حسن عسكر كاظم2
Journal: Tikrit Journal of Pure Science مجلة تكريت للعلوم الصرفة ISSN: 18131662 Year: 2018 Volume: 23 Issue: 7 Pages: 78-84
Publisher: Tikrit University جامعة تكريت

Loading...
Loading...
Abstract

porous Silicon (PS) Layers were prepared by photochemical etching using Sun Light as a Source of energy for the first time instead of industrial Sources of light Such as Lasers, Halogen and tungsten lamps. That was used to preparation (PS) by photochemical etching. Silicon Wafers n-type (100), resistivity (10Ω.cm), (40%) HF Acid, with different illumination intensities(power density) (1758, 3956, 6182 and 8902)mw /cm2 were obtained using different Lenses with different diameters (40, 60, 75 and 90) mm, focal length (13,18,41,45) cm respectively and constant etching time (60min). The morphology of the surface was studied by using an (atomic force microscope) (AFM) and (scanning electron microscope) (SEM) results shows formation of groups of pores and crystals in (nm)size with different diminution are distributed in etched area in wavy forms. The thickness of porous layers ranged from (50.06 3.68, 3.79 and 3.39) nm and the diameter of the particles are(84.06, 59.42, 51.12 and 34.8)nm respectively. The current voltage characteristics for ALthin/n-si/PS/ALthin device fabricated by sun light photochemical etching technique showed a rectifying behavior which improved with increasing light intensity.

تم تحضير طبقات من السليكون المسامي بطريقة التنميش الكيميائي الضوئي. استخدمنا ضوء الشمس وللمرة الاولى كمصدر للطاقة الضوئية بدلاً عن مصادر الطاقة الصناعية كالليزر والهالوجين ومصابيح التنكستن التي كانت تستخدم لتحضير طبقات السليكون المسامي. السليكون المستخدم من نوع n-type(100) وبمقاومة (10Ω.cm) وحامض بتركيز (40%HF). تم الحصول على شدات اضاءة مختلفة mw/cm2(1758,3956,6182,8902 ) باستخدام عدسات لامة بأقطار مختلفة mm(40,60,75,90) وذات ابعاد بؤرية 13,18,41,45)cm)على التوالي ,وزمن تنميش ثابت (60min) .تم استخدام مجهر القوة الذرية (AFM) والمجهر الضوءي الماسح (SEM) لدراسة طبيعة سطح طبقات السليكون المسامي وبينت نتائج السطح تشكيل طبقات سليكون مسامي كمجاميع من المسامات والبلورات النانوية وبمختلف الاقطار وبأشكال تموجيه متوزعة على السطح المسامي وذلك بازدياد شدة الإضاءة. سمك الطبقة المسامية بمدى من50.06,3.06,3.79and3.39)nm)وبمعدل قطر للجسيمات nm(84.37,59.42,51.12,34.8)على التوالي.خصائص تيار – فولطية على النبائط (ALthin/n-Si/PS/ALthin) المصنعة من السليكون المسامي المحضر بطريقة التنميش الكيميائي الضوئي باستخدام ضوء الشمس اظهرت خصائص تقويمية تزداد مع زيادة شدة الاضاءة.

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2018 (1)