research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
Electrical glow discharges and plasma parameter of planar sputtering system for silver target
دراسة معلمات التفريغ الكهربائي لمنظومة الترذيذ المستمر لهدف مسطح من الفضة

Author: Mazin H. Hasan مازن حامد حسن
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2018 Volume: 16 Issue: 37 Pages: 65-72
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

DC planar sputtering system is characterized by varying discharge potential of (250-2000 volt) and Argon gas pressures of (3.5×10-2 – 1.5) mbar. The breakdown voltage for silver electrode was studied with a uniform electric field at different discharge distances, as well as plasma parameters. The breakdown voltage is a product of the Argon gas pressure inside the chamber and gab distance between the electrodes, represent as Paschen curve. The Current-voltage characteristics curves indicate that the electrical discharge plasma is working in the abnormal glow region. Plasma parameters were found from the current-voltage characteristics of a single probe positioned at the inter-cathode space. Typical values of the electron temperature and the electron density are in the range of (2.93 –5.3) eV and (10-16 -10-17) m-3 respectively.

لقد تم في هذا البحث دراسة الخصائص الكهربائية ومعلمات البلازما لمنظومة الترذيذ المستمر مصنعة محليا, من خلال تغير فرق الجهد الكهربائي (250-2000) فولت وتغير ضغط غاز حجرة التفريغ (3.5×10-2– (1.5ملي بار. فولتية الانهيار, ضغط غاز الاركون, المسافة بين اقطاب الفضة هي المتغيرات الخارجية المستخدمة. لقد تم دراسة خصاص التفريغ الكهربائي من خلال توصيف منحني تيار التفريغ الكهربائي – الفولتية المجهزة, منحني باشنت, و منحني تيار التفريغ- ضغط الغاز السلط. كذلك تم دراسة خصائص البلازما المنتجة بأستخدام مجس لاتكميور في المنطقة الداخلية لعامود البلازما. حيث تبين ان قيم درجة حرارة الالكترونات (2.93 –5.3) الكترون فولت وكثافة الالكترونات (10-16-10-17).

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2018 (1)